派瑞林F粉是一种性能优异的涂层材料，由于其优异的性能和的真空气相沉积工艺使其广泛应用于许多领域。作为保形防护材料在许多方面也优于其他常见涂层材料；派瑞林 F粉已在航天航空、电子、半导体等诸多高科技领域得到了广泛应用，未来，随着工艺、技术和产品质量的不断完善，派瑞林F粉在国内的应用规模将快速增长。

派瑞林F粉别名：Parylene F粉、八氟对二二聚体，该材料为含氟的高分子涂层材料。膜层具有高通透性、厚度均匀、耐酸碱、介电特性好、光电和器械等领域都有着广泛的应用。

       采用压力控制器方案，控制往真空腔体内充入的惰性气体的压力以营造一个控制良好的镀膜环境。与反应腔体直接连接的外置真空计测量持续的过程压力，该压力读数通过模拟信号传输到压力控制器并显示。

       进入腔体内的参与反应的气体的流量由质量流量控制器控制。因为上述的压力控制器可以测得腔体内的压力、并通过调节非反应类气体的含量实时调节过程压力，从而使腔体内形成利于沉积的镀膜环境。

       考夫曼离子源是应用较早的离子源。属于栅格式离子源。首先由阴极在离子源内腔产生等离子体，让后由两层或三层阳极栅格将离子从等离子腔体中抽取出来。这种离子源产生的离子方向性强，离子能量带宽集中，可广泛应用于真空镀膜中。缺点是阴极（往往是钨丝）在反应气体中很快就烧掉了，另外就是离子流量有极限，对需要大离子流量的用户可能不适和。

       霍尔离子源是阳极在一个强轴向磁场的协作下将工艺气体等离子化。这个轴向磁场的强不平衡性将气体离子分离并形成离子束。由于轴向磁场的作用太强，霍尔离子源离子束需要补充电子以中和离子流。常见的中和源就是钨丝（阴极）。

       钕铁硼稀土磁性材料是一种问世不久的新型强磁材料。近年来在小型马达、汽车电子，工具、扬声器、电力工具等方面应用发展很快。但钕铁硼稀土磁性材料弱点是容易被空气中的水分及氧气所腐蚀，因此必须有一个的防护涂层钕铁硼稀土磁性材料才有使用价值。

       Parylene涂层不仅有优异的介电性能、低的介质损耗和高的介电强度，同时具有优良的机械性能和耐辐射性能。Parylene如此高的介电强度主要归功于Parylene能形成连续无缺陷和无其它填充物的薄膜。