1)沉积反应如在气固界面上发生则沉积物将按照原有固态基底(又称衬底)的形状包覆一层薄膜。
2)涂层的化学成分可以随气相组成的改变而改变从而获得梯度沉积物或得到混合镀层。
3)采用某种基底材料,沉积物达到一定厚度以后又容易与基底分离,这样就可以得到各种特定形状的游离沉积物器具。
4)在CVD技术中也可以沉积生成晶体或细粉状物质,或者使沉积反应发生在气相中而不是在基底表面上,这样得到的无机合成物质可以是很细的粉末,甚至是纳米尺度的微粒称为纳米超细粉末。
5)CVD工艺是在较低压力和温度下进行的,通过派瑞林镀膜技术可增强材料断裂强度和抗震性能是在较低压力和温度下进行的。
气相沉积与金属喷镀不同,气相沉积不受视线阻碍,需镀膜的产品,其所有的表面皆会被气体单体紧密覆盖,而达到精细均匀、高质量的镀膜表层。
对于腐要求的粘结钕铁硼磁体如果使用时(包括装配,焊接)温度不超过130度可以选择采用,特别是对于小规格磁体不适用电泳的条件下具有很高的效率和良好的抗腐蚀能力,可以满足盐雾120小时。
Parylene 具有高度惰性与高纯度特点,且介电常数和介电损失都很低,由于涂层纯度高,水汽渗透率低,无离子污染 ,因此不受潮气的影响。由于 Parylene 的固化是自动生成的,并在沉积前就完成了,因此基体不会涉及到薄膜涂层的固化应力、溶剂溶解特性及沉积温度高低的限制等问题。
方面的应用主要是涂敷Parylene以后,在产品表面形成的薄膜具有生物相容性和隔离润滑性等特性,这对导尿管、针头、骨骼假体、心脏起搏器、窥视光学镜头的生产具有重要而深刻的意义,足以引起国内行业的一场工艺革命。它对***血液没有影响,且具有抗生物腐蚀能力,已经通过美国和食品*** ( FDA) 认可,可长期植入***。
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