真空涂层技术发展到了今天还出现了PCVD(物理化学气相沉积)、MI-CVD(中温化学气相沉积)等新技术，各种涂层设备、各种涂层工艺层出不穷。目前较为成熟的PVD方法主要有多弧镀与磁控溅射镀两种方式。多弧镀设备结构简单，容易操作。多弧镀的不足之处是，在用传统的DC电源做低温涂层条件下，当涂层厚度达到0.3μm时，沉积率与反射率接近，成膜变得非常困难。而且，薄膜表面开始变朦。多弧镀另一个不足之处是，由于金属是熔后蒸发，因此沉积颗粒较大，致密度低，耐磨性比磁控溅射法成膜差。可见，多弧镀膜与磁控溅射法镀膜各有优劣，为了尽可能地发挥它们各自的优越性，实现互补，将多弧技术与磁控技术合而为一的涂层机应运而生。在工艺上出现了多弧镀打底，然后利用磁控溅射法増厚涂层，后再利用多弧镀达到终稳定的表面涂层颜色的新方法。

       由于PVD涂层能提供更好的边缘保持力，防止氧化和腐蚀，在切削过程中保持清晰，不会与骨骼、***或体液发生反应，故而，越来越多都用于，例如锋利的***器械、针头、钻头、、各种装置组件以及应用的“磨损”部件。PVD功能性硬涂层(如DLC，TIN)已广泛应用在不锈钢零部件上，作用是可减少摩损和延长零部件寿命，但因为涂层本身有缺陷和，所以使用在一些  耐腐蚀要求高的环境下，效果不佳。PVD功能膜配合纳米透明膜是目前更理想的解决方案：PVD涂层提供耐磨性，纳米透明膜提供耐腐蚀性。

       PVD工艺一般只是直线沉积，对形状复杂，纵横比高或有深孔的工件是难以得到均匀的厚度。纳米透明膜可解决这问题，无论形状多复杂，每个位置的膜厚都是一致的，没有大偏差。

        虽然派拉伦涂层通常很薄，但它们的沉积速度也相对较慢。派拉伦沉积很快的变体－派拉伦C－通常以每小时0．2密耳或5微米的速率沉积。这意味着75微米的涂层大约需要15个小时。派拉伦N和D沉积较慢。派拉伦（派瑞林涂层）纳米涂层的优势特点：派拉伦（派瑞林涂层）涂层的耐热性；熔点：从热可塑性角度看，通过派拉伦（派瑞林涂层）真空气镀膜技术，提升PCBA板超疏水疏油的功能。派拉伦（派瑞林涂层）涂层的耐热性：分解温度：温度变化使产品重量减少5%时候，皮膜开始分解，不同的温度领域引起的分解性质不一样的。