真空防水镀膜大家十分的了解,大家日常生活许多 东西都镀上了一层膜,小到小宝宝的奶嘴,大到航空航母。镀上多一层薄膜,即提高了它的耐用水平,也提高了外观色彩饱和度,还有应用范围,所以表面上镀上多一层膜,是十分必要的。近年来生活水平逐渐的提高,人们对日常生活质量标准愈来愈高,当然对日常生活各类产品标准更高。真空防水镀膜影响着人们的生活习惯,早已变为大家日常生活必不可少的一部分。

       真空状态下，膜料的熔点溫度和汽化溫度要比在大气状态下低许多 。对高熔点的氧化物膜料,在真空状态下其熔点要低得多。也 就比较容易到汽化溫度而不需太高的能量。真空状态下，真空室中空气非常少,涂料分子从汽化源到达产品表面上的路途中几乎不与残留在真空室中的气体分子碰撞，即分子自 由程长,涂料比较容易沉积在产品上。因为真空室中气体分子少,所以杨分子、硫分子等活泼分子也少,高温状态的涂料分子就不容易与之产生化学变化,进而确保膜层 的涂料纯度与均匀。

       真空涂层技术发展到了今天还出现了PCVD(物理化学气相沉积)、MI-CVD(中温化学气相沉积)等新技术，各种涂层设备、各种涂层工艺层出不穷。目前较为成熟的PVD方法主要有多弧镀与磁控溅射镀两种方式。多弧镀设备结构简单，容易操作。多弧镀的不足之处是，在用传统的DC电源做低温涂层条件下，当涂层厚度达到0.3μm时，沉积率与反射率接近，成膜变得非常困难。而且，薄膜表面开始变朦。多弧镀另一个不足之处是，由于金属是熔后蒸发，因此沉积颗粒较大，致密度低，耐磨性比磁控溅射法成膜差。可见，多弧镀膜与磁控溅射法镀膜各有优劣，为了尽可能地发挥它们各自的优越性，实现互补，将多弧技术与磁控技术合而为一的涂层机应运而生。在工艺上出现了多弧镀打底，然后利用磁控溅射法増厚涂层，后再利用多弧镀达到终稳定的表面涂层颜色的新方法。

       工艺方面水性三防漆由于干燥固化较慢，为了标准的涂覆控制，好是选择喷涂，而喷涂有一些电子制造企业并不具备喷涂和加热固化产线，外发加工会增加时间成本，周转损失，对整体生产进度影响较大，而纳米涂层推荐使用浸涂工艺，再加上固化秒干，可直接在本厂产线完成，可以理解为浸涂后几分钟就可以进行下一个工序。

        附着力方面纳米涂层要略弱一些，尖锐的工具或者指甲都可能会划破，不过这个不足有时也成为了优势，比如不小心浸涂到USB之类的插件上，导致插件绝缘，但只要插拔几次即可导通。水性三防漆的附着力要优于纳米涂层。

       关于膜厚度方面纳米涂层本身是纳米级材料，涂膜比水性三防漆薄，可以达到1微米左右，肉眼看不到、膜厚仪测不到的厚度，而水性三防漆就要厚很多。

       派瑞林涂层薄膜的止回阀。微阀具有扭曲型的派瑞林涂层膜, 当有流体顺流时, 派瑞林涂层薄膜抬起, 允许流体通过; 当有流体逆时,派瑞林涂层薄膜封住了通道阻止其流动。该结构的微阀顺流冲破压力小于0. 5 kPa, 逆流的制止压力达600 kPa以上, 同时具有较低的反向泄漏, 性能非常好。由于派瑞林涂层较小的杨氏模量, 产生了较大的变形, 基本可以忽略由薄膜引起的流体阻抗。单通道常闭微止回阀, 整个微阀和微通道都是由派瑞林涂层 C制成的, 其结构为在圆形阀座上的一个圆形的密封板。密封板是固定在子腔薄膜的顶部中心, 由于大气压强使子腔压缩到底部, 从而获得微阀的闭合模式。这种新型的子腔结构是通过没有层结构的释放和在真空条件下派瑞林涂层薄膜的气相沉积来实现的。通过减小密封板和阀座的重叠面积和溅射金属金来减小静摩擦力, 从而减小顺流冲破压力。此种结构的微阀的顺流冲破压力为20～40 kPa, 在逆流压力为270 kPa也不会出现可见的***现象。