真空涂层技术发展到了今天还出现了PCVD(物理化学气相沉积)、MI-CVD(中温化学气相沉积)等新技术，各种涂层设备、各种涂层工艺层出不穷。目前较为成熟的PVD方法主要有多弧镀与磁控溅射镀两种方式。多弧镀设备结构简单，容易操作。多弧镀的不足之处是，在用传统的DC电源做低温涂层条件下，当涂层厚度达到0.3μm时，沉积率与反射率接近，成膜变得非常困难。而且，薄膜表面开始变朦。多弧镀另一个不足之处是，由于金属是熔后蒸发，因此沉积颗粒较大，致密度低，耐磨性比磁控溅射法成膜差。可见，多弧镀膜与磁控溅射法镀膜各有优劣，为了尽可能地发挥它们各自的优越性，实现互补，将多弧技术与磁控技术合而为一的涂层机应运而生。在工艺上出现了多弧镀打底，然后利用磁控溅射法増厚涂层，后再利用多弧镀达到终稳定的表面涂层颜色的新方法。

       纳米镀膜技术是将纳米级的二氧化硅均匀的涂抹在手机屏面，让二氧化硅慢慢的渗透并填充屏面凹陷坑洼处，在自然温度下静置5-10分钟等待固化，或者使用***的纳米镀膜机快速固化，形成有9H硬度的保护涂层。

       同时，早期手机贴膜的材质都是塑料成分，透光率不好，屏面整体可视性差，太阳光下的反光现象伤害视力，越看不清越努力的看更是损伤眼睛的健康；而纳米镀膜的微薄涂层透光率高，呈现效果清晰,还能有效还原屏幕原有的画质色彩，极大提升手机的品质使用感。

       从材质的健康角度来说，贴膜的塑料成分中含有苯，苯的***性大家共知，长期接触***饱受；而纳米的属性是***、无味的食品等级，是儿童都可以触碰的***产品，衡量利弊当然还是纳米镀膜好。

       真空绝缘是利用真空条件下不存在或微量存在粒子，而避免在一定的电场作用下形成的带电粒子移动而导致电流放电，从而达到绝缘的目的。该绝缘方式不同于固相、液相和气相的绝缘机理，对于航天电子产品的特殊的外层空间工作条件，真空绝缘机理可以得到充分的利用。通过真空镀膜设备，在真空绝缘实施过程中，为了保证电极表面的“洁净”，通过对表面采用了真空气相沉积工艺，在表面形成一定厚度的Parylene材料的涂层防护，避免了电极表面的粒子放电，阻止电极之间表面爬电的条件，通过试验验证，获得了较理想的真空绝缘性能，满足了产品的实际应用。实践证明，利用Parylene材料进行配合真空绝缘的实施，在工程上是一种新的有效的绝缘方式的尝试。

派瑞林涂层真空镀膜加工特性：1.良好的披覆特性远优于Epoxy环氧树脂、Urethane尿烷、Silicone硅树脂等涂装灌胶方式。2. 派瑞林涂层具有高绝缘性。3. 派瑞林涂层具有良好的化学特性，抗UV、耐酸碱。4. 派瑞林涂层优异的热特性可适应于200℃至-200℃的温度范围。5. 派瑞林涂层镀膜工艺，主要特性无孔膜层、膜厚均匀一致。6. 派瑞林涂层材料无色高透明度。派瑞林涂层真空镀膜有别于一般喷涂、灌胶，真空镀膜利用气相沉积镀膜方式不受视线阻碍，需镀膜的产品，其所有的表面皆会被活性单体紧密覆盖镀膜，而达到精细均匀、高质量的镀膜表层，而且易于维修，产品回收使用性高，减少灌胶人力成本。