薄膜干涉原理广泛应用于光学表面的检验、微小的角度或线度的精密测量、减反射膜和干涉滤光片的制备等。

等倾干涉和等厚干涉是薄膜干涉的两种典型形式。

聚酯薄膜

由薄膜上、下表面反射（或折射）光束相遇而产生的干涉．薄膜通常由厚度很小的透明介质形成．如肥皂泡膜、水面上的油膜、两片玻璃间所夹的空气膜、照相机镜头上所镀的介质膜等比较简单的簿膜干涉有两种，一种称做等厚干涉，这是由平行光入射到厚度变化均匀、折射率均匀的薄膜上、下表面而形成的干涉条纹．薄膜厚度相同的地方形成同条干涉条纹 次数用完API KEY 超过次数限制

硫化锌

名称：硫化锌（ZnS)

折射率为2.35,400-13000nm的透光范围，具有良好的应力和良好的环境耐久性， ZnS在高温蒸着时极易升华，这样在需要的膜层附着之前它先在基板上形成一无吸附性膜层，因此需要彻底清炉，并且在高温度下烘干，花数小时才能把锌的不良效果消除.HASS等人称紫外线（UV）对ZNS有较大的影响，由于紫外线在大气中导致15-20nm厚的硫化锌膜层完全转变成氧化锌(ZNO）。 次数用完API KEY 超过次数限制

沉积技术以气相沉积法为主，按原理可分为化学气相沉积法和物***相沉积方法两大类。

PVD法相对于CVD方法有独特的优势，因此在金属多层膜的制备过程中，大多采用PVD方法。

PVD方法可呈现多种不同形式，如真空蒸发沉积、溅射沉积、离子束和离子束辐照沉积、分子束外延沉积、脉冲激光沉积、离化团簇束沉积、脉冲电弧沉积等。

市场上的薄膜品种很多，但常用的印刷膜有BOPP，NY，PET，PE。就印刷而言，重要的当然是薄膜的表面处理效果，NY膜是否受潮。印刷时应该制定对膜的表面张力一个膜卷一测的工艺要求。 次数用完API KEY 超过次数限制