真空除气储存柜设备简介

本设备是一种可以提供真空环境的储存设备，分为上中下三层箱室，均可***工作。具备以下主要功能：

1. 对储存箱室抽真空；

2. 控制储存箱室恒压稳定；

3. 具备加热烘烤功能；

4. 温度、湿度、真空度自动检测记录功能；

5. 漏电保护、真空泵过载保护、电气互锁保护功能；

6. 具备自动和手动两种操作模式；

7. PLC控制，触摸屏操作

真空除气储存柜主要参数

1、炉型结构：卧式与立式，单室与双室或多室，炉体炉门采用双层水冷，前开门结构。由炉体、加热系统、真空系统、充气系统、水冷系统、电控系统组成。

2、极限温度：1500℃

3、工作区尺寸：按照用户需求定制

4、设备总功率：20-100 KW（含加热系统、真空机组、制冷机）

5、电源频率：50Hz

6、电源电压：三相380 V（±10V）

高真空除气炉的特点

科创鼎新公司生产的高真空除气炉，真空度可高达10-7Pa，可用于半导体硅片的除气以及红外芯片、气密性封装、航空航天芯片等其他电子产品的封装。

高真空除气炉特点：　

①　极限真空度高；

②　控温精度高；

③　更高的升温速率；

④　更加智能化；

⑤　可真空去除产品空洞与气泡；

⑥　降低产品的氧化性；

⑦　提高工艺室的洁净度。

真空除气炉、真空存储柜的使用环境

使用环境

①　设备占地面积约：长2米，宽1.6米（约3.2平米）高1.95米；

②　电源：380 V±38 V，50 Hz±0.5 Hz，约15KW（外部电源用户自备）；

③　工件要求：无油污，无腐蚀性物质；

④　环境温度：   5 ℃ ～ 35 ℃；

⑤　相对湿度：  20%-85%；

⑥　设备应安装在通风良好的厂房内。