充气开关柜检漏设备  

由于工件内外压差不能大于0.04Mpa,抽空过程中系统可通过电气控制部分控制工件内外基本等压，如果压力差超过设定值，则抽速较快的泵自动停止，等压力差达到规定要求时，泵自动运行，直至真空箱和工件内的真空度均达到规定值。为了保证工件的安全，系统中采用压力和真空传感器同时使用的方式，以防止传感器失效而对系统造成的伤害。系统自动记录、存储抽真空、充氦、氦检过程中的工件和真空箱的压力变化情况。系统同时具有自我诊断与报警功能，显示各种故障信息。

电气系统同时具有自我效准、连锁保护和报警功能，以及急停按钮，确保系统本身运行可靠安全和被检工件的安全。为了保证工件的安全，系统中采用压力和真空传感器同时使用的方式，以防止传感器失效而对系统造成的伤害。

结构主要采用电脑触摸屏的集散式半导体模块控制系统，分散与集中控制相结合，层次分明、成本低廉、维护方便。上位机采用工控机，用于向PID发布指令、系统运行状态集中管理。

控制系统同时具有自我诊断与报警功能，显示各种故障信息。控制系统同时具有自我校准、连锁保护和报警功能，确保系统本身运行安全可靠和被检工件的安全。

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用氦气作为氦质谱检漏气体的原因

1.氦是惰性气体，不与被检件器壁起化学反应，不会污染被检件.使用安全。

2、在氮两侧的是氢(质荷比为2)和双电荷原子碳(质荷比为6)，质荷比都与氮相差较大。氦质谱检漏法有优点在于：氦是惰性气体，对大气无污染，使用安全。这样，它们在分析器中的偏转半径相差也大,容易分开，定标找氨峰时，不易受其他离子的干扰，因此就降低易于加工。同时，分析器出口电极及离子源加速极的隙缝也可以加大,使更多的氦离子通过，提高了仪器灵敏度。

半导体设备及材料需要检漏原因

1、半导体设备要求高真空，比如磁控溅射台、电子束蒸发台、ICP、PECVD等设备。出现泄漏就会导致高真空达不到或需要大量的时间，耗时耗力；

2、在高真空环境洁净度高、水蒸气很少。一旦出现泄漏周围环境中的灰尘和悬浮颗粒或尘埃就会对晶元造成污染，对半导体的特性改变并***其性能，因此在半导体器件生产过程中必须进行氦质谱检漏；

3、一些半导体设备要用到***或有腐蚀性的特殊气体，经过氦质谱检漏后，在低漏率真空条件下，这些气体不易外泄，设备能及时抽走未反应气体和气态反应产物，保障工作人员安全和大气环境。

4、芯片封装，一旦出现泄漏，芯片就会失效。

氦质谱检漏仪

充氦法

充氦法也称负压法 ，一个密闭的气室连接真空泵和氦气罐，将被检零件装入一个气室，开始关闭氦气罐阀门，机械泵把气室先抽成真空，然后关闭真空泵阀门，打开氦气罐阀门给气室充氦，并静置一段时间。被氦气包围的小器件上如果有漏隙，氦气就慢慢充入小器件内部。氦质谱检漏原理氦质谱检漏技术是以无色、无味的惰性气体氦气为示踪介质、以磁质谱分析仪为检测仪器，用于检漏的一种检测技术，它的检漏灵敏度可达10-14～10-15Pa?m3/s，可以准确确定漏孔位置和漏率。然后将气室打开，取出被检器件，用压缩空气吹掉其外表面可能吸附的氦。再把这些器件逐个(或成组) 地装入接在检漏仪进气法兰处的容器中，把此容器抽空后打开节流阀，这时原***入被检器件的氦又会经过漏孔放出来，检漏仪就会给出漏率响应。