氦检漏仪产品介绍

以下内容由科创真空为您提供服务，希望对同行业的朋友有所帮助。

用于电厂检漏的氦质谱检漏仪。关键部件均为进口，性能。不仅灵敏度高，而且操作方便，能够双灯丝自动切换、自动调零、自动校准和自动量程切换。

可检漏率： 5×10-12Pa·m3/s漏率显示的范围： 1×10-3～1×10-12Pa·m3/s启动时间： ≤5min响应时间： <2S检漏口： 300Pa极限真空： 5×10-4Pa外形尺寸： 560（W）×420（D）×300（H）重量：46KG

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空调检漏系统

不同类型的泄漏有着不同的表现。泄漏处的几何结构、压力、材料、湿度、温度以及流量都是影响泄漏表现的因素。过多干扰因素给检漏工作带来了很大的挑战。

以下三种难检测类型是小编搜集和分析的案例。

类型 1：射束泄漏

在使用示踪气体检漏时，有时可能只能***极狭窄区域。与此同时，您却得到泄漏指示，但是与测试对象远离(几英尺/分米)，因而原因不明。

您发现的泄漏可能是非常狭小且高速射出示踪气体细束，这几乎跟激光器射出的窄激光束的情形一样。离泄漏点越远，射束就散开得越大，但即便距离泄漏点相当远的距离，射束可能依然非常细窄。

气体射束可能撞到操作员或周围的结构并发生“回弹”，从而导致操作员弄不清楚射束的真实来源位置。如果注意到这种难以检测的泄漏，就可以节省宝贵的检测时间。

类型 2：不明显的液体泄漏

对产品进行液体泄漏测试时，结果可能是产品不存在泄漏，但如果用示踪气体检漏法进行检测，就能够可靠地发现泄漏。

漏孔可以将漏液以非常缓慢的速度送到泄漏处的表面，以致于液体在到达物体外部的表面时，即被蒸发。液体蒸发速度非常快，在泄漏点无明显痕迹。

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半导体设备及材料需要检漏原因

1、半导体设备要求高真空，比如磁控溅射台、电子束蒸发台、ICP、PECVD等设备。出现泄漏就会导致高真空达不到或需要大量的时间，耗时耗力；

2、在高真空环境洁净度高、水蒸气很少。一旦出现泄漏周围环境中的灰尘和悬浮颗粒或尘埃就会对晶元造成污染，对半导体的特性改变并***其性能，因此在半导体器件生产过程中必须进行氦质谱检漏；

3、一些半导体设备要用到***或有腐蚀性的特殊气体，经过氦质谱检漏后，在低漏率真空条件下，这些气体不易外泄，设备能及时抽走未反应气体和气态反应产物，保障工作人员安全和大气环境。

4、芯片封装，一旦出现泄漏，芯片就会失效。

氦质谱检漏仪

钟罩法

将氦质谱检漏仪与试件用真空橡皮管连接，在试件上用密闭的容器罩住，在容器里充入氦气，检漏仪开始检漏，如果试件有漏点，仪器就可以显示其漏率;这种方法可以测量液体储料罐的漏率，在罐体外罩氦罩采用塑料薄膜，对罐体进行粗抽和预抽，在用标准漏孔校对检漏仪，对氦罩进行充氦，就可以测出罐体的漏率

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