山西硅片除气装置生产厂家服务为先「科创真空」
作者:科创真空2022/8/8 3:57:22
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视频作者:北京科创鼎新真空技术有限公司






真空除气储存柜主要参数

1、炉型结构:卧式与立式,单室与双室或多室,炉体炉门采用双层水冷,前开门结构。由炉体、加热系统、真空系统、充气系统、水冷系统、电控系统组成。

2、极限温度:1500℃

3、工作区尺寸:按照用户需求定制

4、设备总功率:20-100 KW(含加热系统、真空机组、制冷机)

5、电源频率:50Hz

6、电源电压:三相380 V(±10V)



高真空除气炉的特点

科创鼎新公司生产的高真空除气炉,真空度可高达10-7Pa,可用于半导体硅片的除气以及红外芯片、气密性封装、航空航天芯片等其他电子产品的封装。

高真空除气炉特点: 

① 极限真空度高;

② 控温精度高;

③ 更高的升温速率;

④ 更加智能化;

⑤ 可真空去除产品空洞与气泡;

⑥ 降低产品的氧化性;

⑦ 提高工艺室的洁净度。



真空除气储存柜

一种真空除气存储柜,包括真空室、真空系统、加热系统、水冷、柜体等,柜体内设置有一个或多个储物室,储物室朝向柜体前端的一端为储物室的开口端,柜体上设置有将储物室的开口端封闭的封盖,储物室的内部底端设置有能够自储物室的开口端抽出的水平的托板,托板的两侧与储物室内部相对的两个侧壁滑动相连,真空除气炉。

本机台不要放置在阳光直射或环境温度过高的地方,环境温度是5-35℃,环境湿度是35%~65%的相对湿度;且要保持放置处长期通风良好的位置。

请小心将物品放入机台,关上箱门,检查是否密闭。试验结速后,站侧面打开箱门,以免热气烫到面部。



商户名称:北京科创鼎新真空技术有限公司

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