真空除气储存柜的技术参数

1. 腔室内尺寸：①②号宽1050x高200x深700mm  ③号宽1050x高380x深700mm；

2. 极限真空度：2×10-5Pa；

3. 加热烘烤：200-800℃烘烤除气功能，±3℃；

4. 整体结构型式：泵箱一体，三个腔室；

5. 观察窗：每一个箱室均配一个Φ100观察窗，材质为石英玻璃，透光好；

6. 控制方式：一室一泵配置，自动保持真空，可手动***控制工作；

7. 异常报警功能：具有自动监控各部分的运行状态功能，异常诊断报警，故障诊断，并停止设备运行的功能。

真空除气储存柜设备用途 

本系统主要分为机械与电控两大部分。下面将详述各个部分构成。

机械部分主要由以下两个单元构成：真空箱室单元、真空获得系统单元。

真空除气储存柜设备主要应用于金属材料与非金属材料的高真空热处理。主要应用行业与工艺：半导体硅片除气；3D打印金属工件与合金材料的高真空热处理；X射线管高真空除气。

高真空除气炉的特点

科创鼎新公司生产的高真空除气炉，真空度可高达10-7Pa，可用于半导体硅片的除气以及红外芯片、气密性封装、航空航天芯片等其他电子产品的封装。

高真空除气炉特点：　

①　极限真空度高；

②　控温精度高；

③　更高的升温速率；

④　更加智能化；

⑤　可真空去除产品空洞与气泡；

⑥　降低产品的氧化性；

⑦　提高工艺室的洁净度。