一般洁净室高度控制在2.60米，对个别较高的设备可在局部加高，而不宜提高洁净区的高度。净化工程的步的关键是设计，工程设计水平的好与坏将直接关系到整个工程之后的施工，还会影响净化工程今后的稳定性、可靠性、经济性。10级：主要用于带宽小于2微米的半导体工业。其空气净化要求仅次于1级，并且我国半导体技术也在发展之中，在未来对洁净度的要求更加高。

对不同洁净度等级的洁净室，产生粉尘和***气体的洁净室，被排介质毒性大的、有易1燃易1爆气体的岗位，应单独设局部排风系统。要说净化工程在发展的前景方面，形势还是非常好的，市场需求更是一片大好。因为我们***的制药、电子信息等行业都在迅速发展，所以对净化工程行业的发展起到了带动的作用。在这里需要提醒大家的是自从我们***的医方面的改条文GMP-2010发布之后，既推动了生物医和食品化工行业的发展，也间接的推动了净化工程行业的发展。而且相关方面支持也让净化工程行业的发展机遇推到了非常好。净化工程的一般施工程序：粉尘作业，无尘作业后，不允许交叉作业。 否则会影响项目的质量。 也就是说，在完成所有粉尘产生操作之后，可以进行无尘操作。

湿度过高产生的问题更多。相对湿度超过55%时，冷却水管壁上会结露，如果发生在精密装置或电路中，就会引起各种事故。相对湿度在50%时易生锈。此外，湿度太高时将通过空气中的水分子把硅片表面粘着的灰尘化学吸附在表面耐难以清除。相对湿度越高,粘附的难去掉，但当相对湿度低于30%时，又由于静电力的作用使粒子也容易吸附于表面，同时大量半导体器件容易发生击穿。对于硅片生产温度范围为35—45%。净化工程在设计时，无论是新建还是重新改造的净化车间，都一定依照***相关标准、规范进行。

净化工程的等级划分比较的严格，一般按照7个等级进行的划分，分别是1级，10级，100级，1000级，10000级，100000，1000000级，净化安全要求是根据等级来实施的，净化工程等级数越小，级别是越高的，其含尘量越少，排名是靠前的。100级：是常用的净化工程，除了对空气中的尘埃数有要求，对空气中***的浓度也有明确要求。一般用于医药行业进行无菌制造，例如制造临床用于植入体内的物品，***生产。***科学实验也在此环境中，包括实验动物饲养环境。布置工艺的流程尽可能短，减少交叉往复，、物流走向合理。要配备人员净化室、物料净化室，除配备产品工序要求的用室外，还应配备洁具室、洗衣间、暂存室等，每间用室相互***，净化工程的面积应在保证基本要求前提下，与生产规模相适应。