一般洁净室高度控制在2.60米，对个别较高的设备可在局部加高，而不宜提高洁净区的高度。洁净室的构成是由下列各项系统所组成(在所组成的系统分子中是缺一不可的)，否则将无法构成一完整且品质良好的洁净室。具体工艺对温度的要求以后还要列举，但作为总的原则看，由于加工精度越来越精细，所以对温度波动范围的要求越来越小。例如在大规模集成电路生产的光刻工艺中，作为掩膜板材料的玻璃与硅片的热膨胀系数的差要求越来越小。

湿度过高产生的问题更多。相对湿度超过55%时，冷却水管壁上会结露，如果发生在精密装置或电路中，就会引起各种事故。相对湿度在50%时易生锈。此外，湿度太高时将通过空气中的水分子把硅片表面粘着的灰尘化学吸附在表面耐难以清除。相对湿度越高,粘附的难去掉，但当相对湿度低于30%时，又由于静电力的作用使粒子也容易吸附于表面，同时大量半导体器件容易发生击穿。对于硅片生产温度范围为35—45%。净化工程在设计时，无论是新建还是重新改造的净化车间，都一定依照***相关标准、规范进行。

洁净外走廊和其他辅助用房采用彩钢板，彩钢板板厚度必须按***标准执行。风管要求经济与效率并重在无尘车间工程集中或净化空调系统中，对风管的要求是既经济又能有效地送风。前者要求体现在价格低廉，方便施工，运行成本，内表面光滑阻力小。后者是指严密性好，不漏气，不发尘，不积尘，不污染，可耐火、耐腐蚀、耐潮湿。通过洁净车间技术在净化工程的应用中可以看出，洁净车间净化工程中各级空气洁净度的空气净化处理，均采用了初级效率、中级效率、效率的空气过滤器。