在真空条件下，采用低电压、大电流的电弧放电技术，利用气体放电使靶材蒸发并使被蒸发物质与气体都发生电离，利用电场的加速作用，使被蒸发物质及其反应产物沉积在工件上。

PVD真空镀层按照膜层应用来分类可分为装饰膜层和硬质膜层：

装饰膜层可以改善工件外观装饰性能和色泽同时使工件更耐磨耐腐蚀；硬质膜层用于提高工件的表面硬度和耐磨性，降低表面的摩擦系数，提高工件的使用寿命。

PVD (Physical Vapor Deition) 即物***相沉积，分为：真空蒸发镀膜、真空溅射镀膜和真空离子镀膜。我们通常所说的PVD镀膜 ，指的就是真空离子镀膜；通常说的NCVM镀膜，就是指真空蒸发镀膜和真空溅射镀。在直接水冷的情况下,金属靶材的靶功率密度允许值为10~30W/cm2。真空蒸镀基本原理：在真空条件下，使金属、金属合金等蒸发，然后沉积在基体表面上，蒸发的方法常用电阻加热，电子束轰击镀料，使蒸发成气相，然后沉积在基体表面，历，真空蒸镀是PVD法中使用早的技术。

增强型磁控阴极弧：阴极弧技术是在真空条件下，通过低电压和高电流将靶材离化成离子状态，从而完成薄膜材料的沉积。增强型磁控阴极弧利用电磁场的共同作用，将靶材表面的电弧加以有效地控制，使材料的离化率更高，薄膜性能更加优异。

　　过滤阴极弧：过滤阴极电弧(FCA )配有的电磁过滤系统，可将离子源产生的等离子体中的宏观粒子、离子团过滤干净，经过磁过滤后沉积粒子的离化率为，并且可以过滤掉大颗粒， 因此制备的薄膜非常致密和平整光滑，具有抗腐蚀性能好，与机体的结合力很强。

古铜色

劈裂电弧涂层 ，含Si纳米复合涂层 ， 极高抗热性能 ，适合硬切削，纳米硬度4300Hv，纳米厚度1~3μm。摩擦系数0.3。应用温1200℃.加工硬度可达65HRC.

用途：特适合加工淬火、钢淬火硬钢、不锈钢、沉淀硬化不锈钢

8)黑色

劈裂电弧涂层，纳米厚度1-3μm，加工硬度可达58HRC.

用途：特适合加工不锈钢、钛合金、沉淀硬化不锈钢、铜合金、铝合金