真空镀膜设备镀铝工艺常见问题

清除涂装室内的灰尘，建立清洁的车间，保持室内的高度清洁，是涂装工艺对环境的基本要求。在空气湿度高的区域，除了在电镀前仔细清洁真空室中的基板和零件外，还需要烘烤和脱气。为防止油带入真空室，应注意油扩散泵的回油情况，对加热功率大的扩散泵采取挡油措施。真空镀膜-真空镀膜设备镀铝工艺常见问题镀铝时薄膜呈现孔洞

离子电流几乎与气体流量成正比

简单耐用。离子电流几乎与气体流量成正比，可以获得更大的离子电流。钨丝一般穿过出口，受到离子束的冲击会很快被腐蚀，特别是对于反应性气体，通常需要十几个小时才能更换。而且钨丝也会有一定的污染。解决钨丝的缺点。有寿命长的中和剂，如小型空心阴极源。霍尔离子源是应用的离子源。离子源，如Veece的MarkI和MarkII。适合大部分国产离子源。

溅射镀膜的基本原理:充(Ar)气的真空环境中

溅射镀膜的基本原理：充(Ar)气的真空环境中，当(Ar)原子被电离，形成离子(Ar)时，离子在电场力的作用下，加速轰击用镀料制成的阴极靶，靶将溅射出来并沉积在工件表面。溅射膜中的入射离子，一般是通过辉光放电获得的，在l0-2Pa~10Pa范围内，因此溅射出的粒子在飞向基体时，容易与空气中的气体分子发生碰撞，使其运动方向随机，沉积的薄膜容易均匀。