在电子学方面真空镀膜更占有极为重要的地位。各种规模的继承电路。包括存贮器、运算器、告诉逻辑元件等都要采用导电膜、绝缘膜和保护膜。作为制备电路的掩膜则用到铬膜。磁带、磁盘、半导体激光器，约瑟夫逊器件、电荷耦合器件(CCD)也都甬道各种薄膜。在元件方面，在真空中蒸发镍铬，铬或金属陶瓷可以制造电阻，在塑料上蒸发铝、一氧化硅、二氧化钛等可以制造电容器，蒸发硒可以得到静电复印机用的硒鼓、蒸发钛酸钡可以制造磁致伸缩的起声元件等等。真空蒸发还可以用于制造超导膜和惯性约束巨变反应用的微珠镀层。

另一类是有机污物，包括动植物油脂、矿物油脂、混合油脂、热粘附物及抛光膏残渣等。电镀时，即使是微量的污物层残留于表面，也会造成镀层结合不牢及剥落等缺陷，所以污物层务必除净，这一工序称为除油。电镀时，基体不锈钢屏风和不锈钢屏风镀层之间常因存在非不锈钢的夹层而不能形成连续的结晶结构，造成镀层起泡或脱落等结合不良的缺陷。因此，必须清除氧化皮、锈及氧化物等变质层。

真空镀膜可以使原料具有许多新的、的物理和分析化学特征

真空镀膜可以使原料具有许多新的、的物理和分析化学特征。20世纪70年代，物品表面表层镀膜的方法重要包括电镀和化学镀镍。前者根据插线，将锂电池电解液电解水、电解水的等离子体涂抹在另一个电极的基本表面，因此这样表面的表层镀膜的规范，基本上尽量是电的良导体，塑料薄膜的厚度也无法控制。后者采用分析化学还原法，尽量将薄膜材料配置成溶液，可以立即申请氧化还原反应。这种表面涂层方法不仅塑料薄膜的结合抗拉强度差，而且表面涂层不均匀，难以控制，还继续污水多，造成严重的空气污染。因此，这两种被称为湿式表面的表层电镀法表面的表层电镀制作技术受到很大限制。

面涂:通常面涂的目的有以下两个方面

面涂：通常面涂的目的有以下两个方面：A、提高镀件的耐水性、耐腐蚀性、耐磨耗性；B、为水染着色提供可能。SZ-97油系列产品均可用于面涂，若镀件不需着色，视客户要求，可选用9911-1哑光油、889透明油、910哑光油等面油涂装。面涂烘干：通常面涂层较底涂层薄，故烘干温度较低，约50-60oC，时间约1~2小时，用户可根据实际情况灵活把握，终应保证面涂层干燥。果镀件不需着色，则工序进行到此已经结束。