电镀不良在不同性质的产品中也有不同的影响，比如装饰性外观缺陷会导致产品不能像期望的那样外观完好，但它不会造成功能失效；而功能性表面缺陷是指产品构件的基材在产品使用过程中被腐蚀，这种缺陷是不允许在任何已经表面处理完毕的零件存在的。真空镀钛技术能提高零件的抗磨耗性。下降外表磨擦系数，滑动摩擦阻力更小。没有对******的元素和物质。环保无污染。可在200℃以下的低温涂层，保证零件不变形，硬度不下降等优势。

加工工艺条件的控制直接影响着镀钛层的质量。只有掌握和控制好每个镀种的各工艺条件，才能获得镀层。温度、电流密度、pH值、镀钛时间等工艺条件必须相匹配。如在镀硬铬时，温度和电流密度配合不当，对镀铬溶液的阴极电流效率、分散能力、镀层硬度和光亮度都有很大的影响。当温度较高时，需适当增加电流密度，才可以获得所需的镀层。二者互相制约，改变其一，另一因素必须跟着变化。因此对镀钛工艺条件控制不好，就会发生镀钛质量事故。

化学气相沉积(ChemicalVaporDepsition)

与之对应的化学气相沉积(ChemicalVaporDepsition)简称为CVD技术。行业内通常所说的“IP”(ionplatin离子镀膜，是因为在PVD工艺技术中各种气体离子和金属离子参与成膜过程并起到重要作用，为了强调离子的作用，而统称为离子镀膜。真空镀膜是一种产生薄膜材料的技术。在真空室内材料的原子从加热源离析出来打到被镀物体的表面上。此项技术用于生产激光唱片(光盘)上的铝镀膜和由掩膜在印刷电路板上镀金属膜。在真空中制备膜层，包括镀制晶态的金属、半导体、绝缘体等单质或化合物膜。虽然化学汽相沉积也采用减压、低压或等离子体等真空手段，但一般真空镀膜是指用物理的方法沉积薄膜。真空镀膜有三种形式，即蒸发镀膜、溅射镀膜和离子镀.蒸发镀膜通过加热蒸发某种物质使其沉积在固体表面，称为蒸发镀膜。

Hunter工艺的步，如今所知，包括加热氯，焦炭和金红石的混合物，在非常高的温度下产生由（TiCl和二氧化碳组成的产物：TiO2（固体）+2Cl2（固体）+C（固体）→TiCl4+CO2（气体）第二步是在700-800摄氏度的耐高温钢外壳中用液态钠（Na）加热前一步骤中的。在这个称为“还原”的过程中，通过钠还原，得到99.9％纯金属钛以及盐（N***）