镀钛工艺处理温度可控制在150～500℃以下，因此镀钛工艺可用于多种材质基体的涂层，不仅具有多姿多彩的装饰效果，更重要的是采用PVD技术可使涂层具有优异的理化特性，大幅度强化基体表面诸如硬度、摩擦系数等物理特性指标。离子真空镀膜技术的特点和用途：钛金真空离子镀钛应用的就是PVD技术。金属在特定环境下(压力，温度，电磁场等)与各种气体(气，氮气，氧气及气等)产生综合作用形成等离子体，经过加速后，等离子体涌向被镀工件表面，形成牢固的膜层。该镀钛膜层细密均匀，结合力强，硬度高，具有良好的导电性和自润滑性能，同时色泽丰富多样，因此真空镀钛不仅是提高材料使用性能的有力手段，在装饰上同样是提升档次，提高附加值的佳选择。

真空镀钛产品长期暴露在空气中，面对酸碱等强腐蚀性物质的接触，还是难以抵挡。因此，日常***维护时，尽量不选用含强酸强碱或去污能力强的清洗剂，如洁厕精，脱漆剂，金属清洗剂等，可以选用工业酒精用绒布轻柔擦拭；如果表面有污垢，也要选用弱酸弱碱溶剂来处理。此外，如果长时间暴露在恶劣环境中，或与腐蚀性液体长时间接触，PVD膜层也容易出现脱落等问题，如游泳池（含氟），海水（含盐分多），高温高湿（蒸汽）等环境中。

第三：靶中现象正离子堆积：靶毒时，靶面形成一层绝缘膜，正离子到达阴极靶面时由于绝缘层的阻挡，不能直接进入阴极靶面，而是堆积在靶面上，容易产生冷场致弧光放电---打弧，使阴极溅射无法进行下去。阳极消失：靶*时，接地的真空室壁上也沉积了绝缘膜，到达阳极的电子无法进入阳极，形成阳极消失现象。真空镀膜设备操作程序具体操作时请参照该设备说明书和真空镀膜机上仪表盘指针显示及各旋钮下的标注说明。