真空电镀中溅射镀膜优点浅析：镀材经过溅射所取得的能量比蒸发所取得的能量高出1到2个数量级，带有如此高能量的镀材原子撞击到基材外表时，有更多的能量能够传送到基材上，产生更多的热能。若是在电镀前，电镀出产线上的基体资料外表得到了好的清洗，电镀层就会直接接触到基体资料的外表，并与之结实联系。基体外表状况对掩盖才能的影响

 PVD真空电镀上架处理:PVD电镀上架时，夹具必须到位，这样产品才能固定，不能停止真空电镀。PVD电镀有一个特殊的夹具，是的底漆喷涂处理：PVD电镀喷的位置和油漆调整准备在线，PVD电镀在线必须注意避免手接触产品。pvd真空电镀加工

 PVD真空电镀具有优异的附着力和耐久性——弯曲90度以上无裂纹或剥落。其他技术，包括电镀、喷涂等，都无法与之相比。任何可以想象的设计图案都可以蚀刻/在室内或室外使用，具有很强的和耐腐蚀性。

电镀系统组合：靶材，在电镀时，经电浆中的正离子轰击，而析镀于基材的镀层材料;靶材通常是阴极。电镀的通量：电镀时的通量即为电镀原子的流量。流量原子的组成与经冷却，且未产生内扩散的靶材相同。同一靶材的所有材料之电镀速率大致相同。(然而，蒸镀的蒸镀速率并不同)。某些次要考核部位及反面等各部位都要有镀层包覆，且色泽鲜亮，不能发黑、露塑及有夹具拉毛印。

半透明真空电镀质量会被哪些因素影响：半透明真空电镀设备大部分都是按一定水电镀工艺过程要求将有关镀槽、镀件的要求去提升传运装置、电器控制装置、电源设备、过滤设备、检测仪器、加热与冷却装置、空气搅拌设备等组合为一体，通过机械和电气装置自动完成半透明真空电镀质工序要求的全部过程，生产效率好，产品质量稳定。