电镀工艺的分类与流程说明

真空镀钛是当光线进入不同传递物质时（如由空气进入玻璃），大约有5% 会被反射掉，在光学***中有许多透镜和折射镜，整个加起来可以让入射光线损失达30%至40%。颜色深韵、光亮，可减少清洗和擦亮颜色所必须的时间和成本对环境不会产生任何污染，在生产和佩戴过程中避免化学中i毒/具有生物兼容性。随着工业化生产的不断细分，新工艺新材料的不断涌现，在实际产品中得到应用的设计效果也日新月异，真空镀钛是我们在设计中经常要涉及到的一种工艺，而真空镀钛效果是我们使用时间较长，工艺也较为成熟的一种效果，对于这种工艺的应用在我们的产品上已经非常多。

未来我国电镀工业的发展趋势      

未来我国电镀工业的发展趋势基本可归纳为以下五点：

1、装饰性和功能性电镀工艺技术将不断发展.我国随着汽车、电子、家用电器、航空、航天工业、建筑工业及相应的装饰工业的发展和人们对美化生活需求的提高,对电镀产品的装饰性和功能性的需求将有明显的增加.

2、某些传统装饰性电镀可能被喷涂、物***相沉积等取代，功能性电镀产品需求则有上升的趋势.

3、某些污染严重的电镀工艺，可能被清洁的电镀工业所取代，如无电镀、三价铬镀铬、代镉、代铬镀层将有上升的趋势.

4、某些性能好、无污染的表面工程的高新技术将会进入我国市场.

5、企业管理水平低，绝大部分电镀企业仍沿袭粗放型经营管理模式，适应市场变化能力差。除部分合资企业和出口企业外，大部分企业没有健全的工业管理体系，多数企业缺乏镀液分析和镀层检测仪器和技术力量。

在真空条件下可减少蒸发材料的原子、分子在飞向塑料制品过程中和其他分子的碰撞，减少气体中的活性分子和蒸发源材料间的化学反应(如氧化等)，从而提供膜层的致密度、纯度、沉积速率和与附着力。相对湿度不高于70%清洁空气流通的环境中工作，真空电镀设备一般应在温度为1530℃。通常真空蒸镀要求成膜室内压力等于或低于10-2Pa，对于蒸发源与被镀制品和薄膜质量要求很高的场合，则要求压力更低( 10-5Pa )。 　　镀层厚度0.04-0.1um太薄，反射率低;太厚，附着力差，易脱落。厚度0.04时反射率为90%

在表面处理工艺上，真空电镀成为环保新趋势。更安全、更节能、降低噪声、减少污染排放的特点，与一般电镀不同，真空电镀更加环保，可以生产出普通电镀无法达到的光泽度很好的黑色效果。

1、定义

因镀膜机在真空状态下蒸发靶材生成镀层，故将此制程称为真空电镀。

2、原理

其过程是在真空条件下，采用低电压、高电流的方式将蒸源通电加热，靶材在通电受热的情况下分散到工件表面，并以不定形或液态状沉积在工件表面，冷却成膜的过程

3、分类

真空镀膜的镀层结构一般为：基材、底漆、真空膜层、面漆，因靶材理化特性直接决定膜层的特性，根据膜层的导电与否，可分为导电真空镀膜（VM）和不导电真空镀膜（NCVM）两种。