PVD真空电镀

我们通常情况下所了解的PVD镀膜就是所谓的真空镀膜技术，真空镀膜技术及工艺在真空镀膜加工企业已广泛使用，PVD镀膜主要就是在真空的条件下进行镀膜，它的使用行业和市场前景也十分广阔，PVD镀膜的工艺流程和施工条件也不是相对复杂，相对应的PVD镀膜是通过PVD镀膜机在真空的条件下进行真空离子镀膜。金属真空镀膜厂

镀膜的方法及分类：在真空条件下成膜有很多优点：通常真空蒸镀要求成膜室内压力等于或低于10-2Pa，对于蒸发源与基板距离较远和薄膜质量要求很高的场合，则要求压力更低。主要分为一下几类：蒸发镀膜、溅射镀膜和离子镀。蒸发镀膜：通过加热蒸发某种物质使其沉积在固体表面，称为蒸发镀膜。这种方法由M.法拉第于1857年提出，现代已成为常用镀膜技术之一。


真空镀膜主要方法：真空蒸镀。其原理是在真空条件下，用蒸发器加热带蒸发物质，使其气化或升华，蒸发离子流直接射向基片，并在基片上沉积析出固态薄膜的技术。真空蒸镀法优点：设备比较简单 、操作容易；制成的薄膜纯度高 、质量好，厚度可较准确控制；成膜速率快，效率好；薄膜的生长机理比较简单；缺点：不容易获得结晶结构的薄膜；所形成的薄膜在基板上的附着力较小