什么是真空镀膜技术？主要分为以下几类：蒸发镀膜、溅射镀膜和离子镀。蒸发镀膜：通过加热蒸发某种物质使其沉积在固体表面，称为蒸发镀膜。该薄膜是真空制备的，包括结晶金属、半导体、绝缘体等单一物质或复合膜的镀膜。虽然CVD也采用减压、低压或等离子体等真空方法，但真空镀膜一般指的是物理方法沉积薄膜。真空镀膜有蒸发镀膜、溅射镀膜和离子镀三种形式。


真空镀膜技术的特点：真空镀膜性能优良：真空镀膜厚度远小于电镀层，但涂层的耐摩擦和耐腐蚀性能良好，孔隙率低，而且无氢脆现象，相对电镀加工而言可以节约大量金属材料。束流沉积镀，结合了离子注入与气相沉积镀膜技术的离子表面复合处理技术，是一种利用离化的粒子作为蒸镀材料，在比较低的基片温度下，形成具有良好特性薄膜的技术。

真空离子镀膜技术——对***和生态环境真正无害，绿色环保。

PVD真空镀膜可镀IPG浅金、IP金色、IP炉内玫瑰金、IP咖啡色、IP铬、IP***、棕色、IP黑、色等。

金属真空镀膜加工

PVD镀膜过程非常复杂，由于镀膜原理的不同分为很多种类，仅仅因为都需要高真空度而拥有统一名称。所以对于不同原理的PVD真空镀膜，影响均匀性的因素也不尽相同。并且均匀性这个概念本身也会随着镀膜尺度和薄膜成分而有着不同的意义。