真空镀膜技术与湿式镀膜技术相比较，具有下列优点：由于镀膜设备的不断改进，镀膜过程可以实现连续化，从而大大地提高产品的产量，而且在生产过程中对环境无污染。真空电镀适用范围较广，如ABS料、ABS+PC料、PC料的产品。同时因其工艺流程复杂、环境、设备要求高，单价比水电镀昂贵。现对其工艺流程作简要介绍：产品表面清洁--〉去静电--〉喷底漆--〉烘烤底漆--〉真空镀膜--〉喷面漆--〉烘烤面漆--〉包装。


真空镀膜技术与湿式镀膜技术相比较，具有下列优点：由于在真空条件下制膜，所以薄膜的纯度高、密实性好、表面光亮不需要再加工，这就使得薄膜的力学性能和化学性能比电镀膜和化学膜好。真空电镀是行业里面统称，它属于电镀技术的一种，属于表面真空镀膜处理技术，它环保有效，解决了表面处理上的很多难题。真空电镀处理剂是一种特殊的附着力处理剂，提升镀层与底材之间的附着力，解决掉镀层，过不了测试等问题。

真空离子镀膜技术——对***和生态环境真正无害，绿色环保。

PVD真空镀膜可镀IPG浅金、IP金色、IP炉内玫瑰金、IP咖啡色、IP铬、IP***、棕色、IP黑、色等。

玻璃真空镀膜厂

PVD镀膜过程非常复杂，由于镀膜原理的不同分为很多种类，仅仅因为都需要高真空度而拥有统一名称。所以对于不同原理的PVD真空镀膜，影响均匀性的因素也不尽相同。并且均匀性这个概念本身也会随着镀膜尺度和薄膜成分而有着不同的意义。

真空镀膜技术在镀膜工业中的应用：在电子学方面真空镀膜更占有重要的地位。各种规模的继承电路。包括存贮器、运算器、告诉逻辑元件等都要采用导电膜、绝缘膜和保护膜。作为制备电路的掩膜则用到铬膜。磁带、磁盘、半导体激光器，约瑟夫逊器件、电荷耦合器件（CCD）也都甬道各种薄膜。请问PVD镀膜膜层的厚度是多少？PVD镀膜膜层的厚度为微米级，厚度较薄，一般为0.1μm～5μm，其中装饰镀膜膜层的厚度一般为0.1μm~1μm。