PVD镀膜工艺原理及应用有哪些？PVD真空镀膜是指钛、金、石墨、晶体等金属或非金属、气体等材料在真空中溅射、蒸发或离子镀在基体上的表面处理工艺。什么是真空镀膜的技术呢？所谓真空镀膜就是置待镀材料和被镀基板于真空室内，采用一定方法加热待镀材料，使之蒸发或升华，并飞行溅射到被镀基板表面凝聚成膜的工艺。

请问PVD能在镀在什么基材上？PVD膜层能直接镀在不锈钢以及硬质合金上，对锌合金、铜、铁等压铸件应***行化学电镀铬，然后才适合镀PVD。什么是真空镀膜技术？蒸发源有三种类型。①电阻加热源：用难熔金属如钨、钽制成舟箔或丝状,通以电流,加热在它上方的或置于坩埚中的蒸发物质电阻加热源主要用于蒸发Cd、Pb、Ag、Al、Cu、Cr、Au、Ni等材料。

真空镀膜技术与湿式镀膜技术相比较，具有下列优点：(1)薄膜和基体选材广泛，薄膜厚度可进行控制，以制备具有各种不同功能的功能性薄膜。(2)在真空条件下制备薄膜，环境清洁，薄膜不易受到污染，因此可获得致密性好、纯度高和涂层均匀的薄膜。(3)薄膜与基体结合强度好，薄膜牢固。请问目前PVD镀膜技术主要应用在哪些行业？

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真空镀膜加工、PVD真空电镀特性

金属表面耐磨/颜色均匀一致，持久光泽，在各种正常空气和阳光直射环境条件下保持良好外观。颜色深韵、光亮，可减少清洗和擦亮颜色所必须的时间和成本对环境不会产生任何污染，在生产和佩戴过程中避免化学/具有生物兼容性。