真空电镀对基材的影响：过电位较小的分出电位较正，即便在电流密度较低的部位也能到达其分出电位的数值，因而其掩盖才能较好。基体资料的外表状况对掩盖才能的影响比较复杂。一般来说，同一镀液在光洁度高的基体外表上掩盖才能要比其在粗糙外表上的掩盖才能好。它比其他工艺更平安，例如镀铬。五金真空电镀金属化不需求铬化物的风险混合。


几种真空镀加工技术：离子渗氮：相对于总体渗氮处理时间短、湿度低、变形小、表面性能可控，可用于各种钢铁及钛合金结构件，各种模具和各种不锈钢制品。真空电镀加工的金属化是一种***的过程，简直完整在真空室中停止。这可确保金属蒸汽不会释放到空气中。在溅射清洁完成之后，向阴极资料施加负电荷，并且假如基板是导电的，则向基板施加负偏压。

半透明真空电镀质量会被哪些因素影响：随着现在半透明真空电镀越来越各行业的关注，大家有去了解过，哪些因素会影响到水电镀工艺的质量吗？射频电镀的优点：电子轰击离子化的效率好，且操作压力比较低(<1mtorr)。减少电弧(电弧的产生是由于粉尘或加热蒸发的气体)。反应电镀(Reactive spuutering)：将反应性气体加入气中，如Ar+H2S，而与电镀原子，如镉形成硫。(例如，在气加氮气的环境下电镀钛，会形成氮化钛)。其可为直流电或射频反应电镀。