真空镀膜就是以磁场束缚而延长电子的运动路径，改变电子的运动方向，提高工作气体的电离率和有效利用电子的能量。电子的归宿不仅仅是基片，真空室内壁及靶源阳极也是电子归宿，因为一般基片与真空室及阳极在同一电势。物***相沉积技术具有膜/基结合力好、薄膜均匀致密、薄膜厚度可控性好、应用的靶材广泛、溅射范围宽、可沉积厚膜、可制取成分稳定的合金膜和重复性好等优点。


真空镀膜技术一般分为两大类：真空镀膜系统优点：蒸发镀膜与手套箱组合，实现蒸镀、封装、测试等工艺全封闭制作，使整个薄膜生长和器件制备过程高度集成在一个完整的可控环境氛围的系统中，消除有机大面积电路制备过程中大气环境中不稳定因素影响，保障了好性能、大面积有机光电器件和电路的制备。真空镀膜是真空应用领域的一个重要方面。

真空镀膜应用是真空应用中的一个大分支，在光学、电子学、理化仪器、包装、机械以及表面处理技术等众多方面有着十分广泛的应用。pvd真空镀膜

PVD镀膜过程非常复杂，由于镀膜原理的不同分为很多种类，仅仅因为都需要高真空度而拥有统一名称。所以对于不同原理的PVD真空镀膜，影响均匀性的因素也不尽相同。并且均匀性这个概念本身也会随着镀膜尺度和薄膜成分而有着不同的意义。

pvd真空镀膜加工的优点：

金属外观，·颜色均匀一致，·颜色深韵、光亮，膜层颜色种类繁多，表面细腻光滑，富有金属光泽，。耐久的表面，在各种基本的的空气和直射阳光环境条件下保持良好外观。·，抗腐蚀。耐腐蚀，化学性能稳定，·抗酸。在常规环境下，户内或者户外，都，，不失去光泽并不留下痕迹。

请问PVD镀膜能够镀出的膜层种类有那些？PVD镀膜技术是一种能够真正获得微米级镀层且无污染的环保型表面处理方法，它能够制备各种单一金属膜(如铝、钛、锆、铬等)、氮化物膜(TiN[钛金]、ZrN〔锆金〕、CrN、TiAlN)和碳化物膜(TiC、TiCN)，以及氧化物膜(如TiO等)。真空镀膜技术在镀膜工业中的应用：增透膜大量用于照相机和电视摄象机的镜头上。