PVD镀膜工艺原理及应用有哪些？真空镀膜技术中常用的方法有蒸发镀膜（包括电弧相应的化学气相沉积（CVD）称为CVD技术。该行业俗称“IP”（离子镀）离子镀层，因为在PVD技术中，各种气体离子和金属离子参与成膜过程并发挥着重要作用，为了强调离子的作用，统称为离子镀膜。以及减少成膜过程中气体分子进入薄膜中成为杂质的量，从而提供膜层的致密度、纯度、沉积速率和与基板的附着力。

请问采用PVD镀膜技术镀出的膜层有什么特点？采用PVD镀膜技术镀出的膜层，具有高硬度、高耐磨性(低摩擦系数)、很好的耐腐蚀性和化学稳定性等特点，膜层的寿命更长；同时膜层能够大幅度提高工件的外观装饰性能。对于大面积镀膜，常采用旋转基片或多蒸发源的方式以保证膜层厚度的均匀性。从蒸发源到基片的距离应小于蒸气分子在残余气体中的平均自由程，以免蒸气分子与残气分子碰撞引起化学作用。

PVD真空镀膜是在真空中将钛、金、石墨、水晶等金属或非金属、气体等材料利用溅射、蒸发或离子镀等技术,在基材上形成薄膜的一种表面处理过程。与传统化学镀膜方法相比，真空镀膜有很多优点：如对环境无污 染，是绿色环保工艺;对操作者无伤害;膜层牢固、致密性好、抗腐蚀性强，膜厚均匀。真空镀膜加工厂

PVD镀膜采用外洋的粉末喷涂技术、磁控PVD镀膜技术停止加工生产电镀产品，PVD镀膜该生产技术的特性是取代了保守水电镀的高污染、高利润编制，以、低利润、PVD镀膜高功用的生产模式来创造产品的高附加值，PVD镀膜产品技术***、美观奢华、绿色环保、陈本低廉、功能精巧，PVD镀膜已被国内外市场普及承认。

真空镀膜技术在镀膜工业中的应用：在电子学方面真空镀膜更占有重要的地位。各种规模的继承电路。包括存贮器、运算器、告诉逻辑元件等都要采用导电膜、绝缘膜和保护膜。作为制备电路的掩膜则用到铬膜。磁带、磁盘、半导体激光器，约瑟夫逊器件、电荷耦合器件（CCD）也都甬道各种薄膜。请问PVD镀膜膜层的厚度是多少？PVD镀膜膜层的厚度为微米级，厚度较薄，一般为0.1μm～5μm，其中装饰镀膜膜层的厚度一般为0.1μm~1μm。