PVD镀膜工艺原理及应用有哪些？真空镀膜与传统化学镀法相比，具有无污染环境、环保环保、对操作人员无危害、膜厚牢固、致密、耐腐蚀性强、膜厚均匀等优点。一、镀膜的方法及分类，在真空条件下成膜有很多优点：可减少蒸发材料的原子、分子在飞向基板过程中于分子的碰撞，减少气体中的活性分子和蒸发源材料间的化学反应（如氧化等）。
请问PVD镀膜能否代替化学电镀？在现阶段，PVD镀膜是不能取代化学电镀的，并且除了在不锈钢材料表面可直接进行PVD镀膜外，在很多其他材料(如锌合金、铜、铁等)的工件上进行PVD镀膜。蒸发源有三种类型。高频感应加热源：用高频感应电流加热坩埚和蒸发物质。电子束加热源：适用于蒸发温度较高的材料。蒸发镀膜与其他真空镀膜方法相比，具有较高的沉积速率，可镀制单质和不易热分解的化合物膜。
离子镀：蒸发物质的分子被电子碰撞电离后以离子沉积在固体表面，称为离子镀。离子镀是真空蒸发与阴极溅射技术的结合。一种离子镀系统，将基片台作为阴极，外壳作阳极，充入惰性气体以产生辉光放电。PVD镀膜主要应用在一些比较好的五金制品上，对那些价格较低的五金制品通常也只是进行化学电镀而不做PVD镀膜。从蒸发源蒸发的分子通过等离子区时发生电离。
