净化技术的设备发展

　　美国在台湾的T***CS新厂已建成第四代管道式洁净室总面积达10000平方米。我国使用的0，1微米十级洁净室主要依赖从国外进口。空气中的微生物虽肉眼看到，但是它会对无尘车间洁净度产生影响，所以日常清洁很重要，为了避免污染物堆积，所以消毒1的时候要彻底，无尘车间所有地方不能出现死角，避免有的地方不能清洁到。由于高洁净级别的洁净室造价十分昂贵，0.1微米十级洁净室每平方米造价高达1万美元以上。在大规模集成电路制造装备的***中洁净厂房占有相当高的比例，这与集成电路工艺不断更新，产品更新换代周期越来越快的发展趋势不相适应，严重制约了大规模集成电路技术的发展。

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GMP净化工程主要需要注意的方面有以下几点：

　　(2)建筑物与设施

　　操作人员控制范围之内的食品厂的四周场地应保持卫生，防止食品受污染。厂房建筑物及其结构的大小、施工与设计应便于以食品生产为目的的日常维护和卫生作业。工厂的建筑物、固定灯具及其他有形设施应在卫生的条件下进行***，并且保持维修良好

,防止食品成为该法案所指的掺杂产品。对用具和设备进行清洗和消毒时，应防止食品、食品接触面或食品包装材料受到污染。食品厂的任何区域均不得存在任何害虫。该项新的无尘车间洁净技术在100级洁净度的洁净厂房中，采用工艺设备局部使用隔离技术的微环境，把***比例压缩到高ji别的微环境，无尘车间消除了操作者与工艺设备运行的二次污染源产生对集成电路成品率和可靠性的影响作用。所有食品接触面,包括用具及接触食品的设备的表面,都应尽可能经常地进行清洗,以免食品受到污染。每个工厂都应配备足够的卫生设施及用具，包括：供水、输水设施、污水处理系统、卫生间设施、洗手设施、垃圾及废料处理系统等。