净化技术的设备发展

　　在洁净室建设规模和技术水平上，我国与******差距更大。（5）防静电元器件架、印制板架、周转箱、运输车的防静电性能每六个月检查一次。日本清水建设公司一家，1982年到1987年期间承建的洁净室面积达71.8万平方米，而我国目年承建的洁净室总面积还不到10万平方米，但八五期间有较大发展，1993年承建洁净室总面积已接近15万平方米。美国的洁净室建设规模更大，1998年统计已达188.5万平方米。在洁净工程技术水平上，80年代末期，国外已大量建成0.1微米级的超净室，1987年日本三洋新泻工场建成十级洁净厂房3000平方米，NIT原木则建成了四个1000平方米控制0.1微米尘埃的千级厂房，换气次数高达300次/分。

　　美国在台湾的T***CS新厂已建成第四代管道式洁净室总面积达10000平方米。净化工程设计方案要确定设计方案，必须先对房间的工作性质以及其中的气流条件进行认真的考虑。我国使用的0，1微米十级洁净室主要依赖从国外进口。由于高洁净级别的洁净室造价十分昂贵，0.1微米十级洁净室每平方米造价高达1万美元以上。在大规模集成电路制造装备的***中洁净厂房占有相当高的比例，这与集成电路工艺不断更新，产品更新换代周期越来越快的发展趋势不相适应，严重制约了大规模集成电路技术的发展。

GMP净化工程主要需要注意的方面有以下几点：

　　(3)设备

　　工厂的所有设备和用具的设计,采用的材料和制作工艺,应便于充分的清洗和适当的维护。这些设备和用具的设计、制造和使用,应能防止食品中掺杂污染源。检漏目的通过测试***过滤器的泄漏量，发现***过滤器及其安装的缺陷所在，以便采取补救措施。接触食物的表面应耐腐蚀,它们应采用无1毒1的材料制成,能经受侵蚀作用。接触食物的表面的接缝应平滑,而且维护得当，能尽量减少食物颗粒、脏物及有机物的堆积,从而将微生物生长繁殖的机会降低到限度。食品加工、处理区域内不与食品接触的设备应结构合理,便于保持清洁卫生。食品的存放、输送和加工系统的设计结构应能使其保持良好的卫生状态。

电子产品制造中无尘车间防静电技术指标要求

　　（1）防静电地极接地电阻＜10Ω。

　　（2）防静电地面或地垫：表面电阻值105-109Ω，摩擦电压＜100V。

　　（3）防静电墙壁：电阻值5×104-109Ω。

　　（4）防静电工作台垫：表面电阻值105-109Ω；摩擦电压＜100V；对地系统电阻105-109Ω。

　　（5） 防静电工作椅面对脚轮电阻105-109Ω。

　　（6） 防静电工作服、帽、手套摩擦电压＜300V；鞋底摩擦电压＜100V。表面电阻值105-109Ω。

　　（7） 防静电腕带连接电缆电阻1MΩ；佩带腕带时系统电阻750KΩ-1O.5MΩ。脚跟带（鞋束）系统电阻105-108Ω。

　　（8）物流车台面对车轮系统电阻105-109Ω。

　　（9）料盒、周转箱、PCB架等物流传递器具表面电阻值103-109Ω，摩擦电压＜100V。

　　（10）包装代、盒摩擦电压＜100V。

　　（11）***综合电阻105-109Ω。