工艺供应节气门位置传感器电阻片
3 电阻设计
(1)阻值范围和方阻：
阻值范围：1Ω/--□--1MΩ/□ ，低于1Ω/□的电阻，可以用钯-银浆料作低 阻材料，其方阻为0.015Ω/□。为了设计规范化，采用1系列的方阻，即： 1Ω/□，100Ω/□，1KΩ/□，10KΩ/□，100KΩ/□，1MΩ/□等7种浆料， 供设计使用。(6)多层布线设计多层布线时，为了防止上下层导体短路，介质印刷两次，第二层缩小0。
(2)设计值即靶值的选择：
一般选择80%的标称值。
(3)对于各种几何图形的电阻，靶值选择原则：
就钯—银端头而论:
长∶宽≤1/3的电阻 目标值为70～75%标称值
长∶宽=0.8～1.2的电阻 目标值为80～90%标称值
长∶宽=1.3～2.5的电阻 目标值为80%标称值
长∶宽=2.8～3.5或更大的电阻 目标值为70～75%标称值
对于金端头,相应减少5%,也就是说,金端头的阻值比钯—银阻值高5%左右。
(4)功率电阻的设计
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对于1/8W以上的功率电阻，结构形式如图5：
磁控溅射是入射粒子和靶的碰撞过程。入射粒子在靶中经历复杂的散射过程，和靶原子碰撞，把部分动量传给靶原子，此靶原子又和其他靶原子碰撞，形成级联过程。在这种级联过程中某些表面附近的靶原子获得向外运动的足够动量，离开靶被溅射出来。
种类
磁控溅射包括很多种类。各有不同工作原理和应用对象。但有一共同点：利用磁场与电子交互作用，使电子在靶表面附近成螺旋状运行，从而增大电子撞击气产生离子的概率。所产生的离子在电场作用下撞向靶面从而溅射出靶材。
靶源分平衡和非平衡式，平衡式靶源镀膜均匀，非平衡式靶源镀膜膜层和基体结合力强。平衡靶源多用于半导体光学膜，非平衡多用于磨损装饰膜。磁控阴极按照磁场位形分布不同，大致可分为平衡态和非平衡磁控阴极。平衡态磁控阴极内外磁钢的磁通量大致相等，两极磁力线闭合于靶面，很好地将电子/等离子体约束在靶面附近，增加碰撞几率，提高了离化效率，因而在较低的工作气压和电压下就能起辉并维持辉光放电，靶材利用率相对较高。油环的作用主要是刮除飞溅到缸壁上的多余润滑油，并将润滑油刮布均匀。
厚膜电阻体材料：用性能导电塑料，耐磨性能好；
电阻片的耐磨指标：采用丝状电刷，电刷丝在电阻表面接触压力为1.2N～2N条件下，来回循环500万次以上，电性能应能满足要求。
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厚膜电阻体的宽度、厚度应均匀，使电刷在上面滑动时，所载取的电阻值与角度成线性关系，线性偏差≤1%。
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