腐蚀机，主要用于电路板精密线路蚀刻；也可用于硬板、软板、软硬结合板、***T模板、微波混合电路、壳体的蚀刻加工。    电路板湿处理设备，含分药液加工单元和水洗两个单元，中间和尾端有风干装置。用向移动的工件喷射药液的方式，对工件进行显影、蚀刻、去膜、水洗加工，是由液体喷射系统和工件移动运动系统组成的。    所用液体为蚀刻剂时，蚀刻剂与电路板上的抗蚀剂不发生作用，只与未被抗蚀剂保护的在外的铜箔反应，使铜元素较终以化合物的形式溶解到蚀刻剂中，被从电路板基材上去除，从而实现对电路板选择性的蚀刻加工。

在整个半导体产业链中，中国投入资金的就属晶圆代工部份。具体来说，晶圆代工就是在硅晶圆上制作电路与电子元件，这个步骤为整个半导体产业链中技术复杂，且资金投入的领域。    以处理器为例，其所需处理步骤可达数百道，且各类加工机台***又昂贵，动辄数千万美元起跳。而一个成熟的晶圆代工厂其设备投入占总设备比重在70%～80%之间。    氧化：其目的在于生成二氧化硅薄膜。用硅作为半导体原材料的重要因素之一就是硅容易生长出二氧化硅膜层，这样在半导体上结合一层绝缘材料，就可用做掺杂阻挡层、表面绝缘层，及元件中的绝缘部分。

有不少朋友向我们小编反映到，自己在使用真空蚀刻机制作网版的过程中，总是在图文部分出现显影不透的现象。那作为一个的真空蚀刻机厂家，小编自然是总结了以下知识，希望能够帮助到大家。

    一、是在恒温箱中烘干网版的时间太长或烘干的温度太高，两者都可使涂布感光胶的网版在没有***之前就产生“热敏化”，如果再***就产生过量***，因此，图像难以显透了。    二、在涂布感光胶时，由于涂布的次数较多，涂布时又不注意避光操作造成多次***，再***时就难以显透图像。    三、晒版光源强度太大，晒版时间太长造成***过度，造成显影困难。有时图像反差太小，***时就会产生***过度，造成显影困难。