什么是蚀刻机

或许在很多人看来，刻蚀技术并不如光刻机那般“”，但刻蚀在芯片的加工和生产过程中同样不可或缺。刻蚀机主要工作是按照前段光刻机“描绘”出来的线路来对晶片进行更深入的微观雕刻，刻出沟槽或接触孔，然后除去表面的光刻胶，从而形成刻蚀线路图案。

在芯片制造领域，光刻机像是前端，而蚀刻机就是后端。光刻机的作用是把电路图描绘至覆盖有光刻胶的硅片上，而蚀刻机的作用就是按照光刻机描绘的电路图把硅片上其它不需要的光刻胶腐蚀去除，完成电路图的雕刻转移至硅片表面。两者一个是设计者，一个是执行者，整个芯片生产过程中，需要重复使用两种设备，直至将完整的电路图蚀刻到硅晶圆上为止。

目前，我国在蚀刻机领域已达到世界***水平，尤其是中微半导体成功突破研制的5nm蚀刻机已于其它企业，而且得到了台积电的验证。真正面临技术挑战，也是被卡脖子的领域是光刻机。不过日前中科院院长白春礼表示，已将光刻机等技术难度较高的产品列入科研清单，未来将集中力量对这些“卡脖子”的技术进行攻关。相信未来光刻机技术也会实现重大突破。

在金属蚀刻生产加工中，原材料前解决有一道除油的工作中，也称作“脱油”。为了更好地得到更快的蚀刻品质，五金蚀刻设备厂家生产厂家必须对除油十分重视。关键是由于蚀刻的金属材质在制造商为了更好地防锈处理、拉拨和机械加工制造或成形环节中采用的汽车机油、润滑脂、动物与植物油等，染上在金属材质上，因而在开展蚀刻前务必去除原料油污染物质。

金属蚀刻加工工艺中除油是表层处理关键工艺之一。由于油渍会危害光感应印刷油墨的粘合力，及其烘干处理时很容易导致印刷油墨掉下来裂开，造成蚀刻图案设计的性，危害文图成形与精度，因而金属蚀刻生产加工中除油加工工艺不可或缺，油渍残渣也需要清理整洁。

一般来说除油能够分成：有机化学或其它办法去除零件表层油渍。现阶段常见办法具体有偏碱除油、有机溶液除油及金属清洗剂除油这些。在蚀刻生产加工中除油整洁也确保了中后期耐蚀层制做的品质，耐蚀层则危害蚀刻生产加工的精度。

在蚀刻生产过程中五金蚀刻设备厂家规定商品的可重复性好，这针对产品品质的确保十分关键。因此 全部蚀刻生产流程中的某一个工艺流程不稳定，便会使设备的品质精度不一，产品合格率达不上规定，给加工厂与顾客都提升另外的成本费，丧失在市場上的竞争能力。因此 生产流程的平稳是产品品质稳定性的基本前提。

在碱性真空蚀刻机中，溶液Cu2+浓度、PH值、NH4Cl浓度、NH3-H2O浓度以及温度都会影响到蚀刻效率。掌握这些因素的影响才能有效的控制溶液，使之保持恒定的佳蚀刻状态，从而得到满意的蚀刻质量。通过我们多年的实践经验，得出以下结论，仅供参考：

Cu2+浓度对蚀刻速度的影响：在这种蚀刻液中，Cu2+是氧化剂，所以Cu2+的浓度对蚀刻机的蚀刻速度的影响占有重要因素。实际经验告诉我们，Cu2+浓度在0g/L~82.5g/L时，蚀刻速度很慢；在82.5g/L~135g/L时蚀刻速度较低，且控制困难；在135g/L~165g/L时，蚀刻速度高且溶液稳定；在165g/L~225g/L时，溶液不稳定，趋向于产生沉淀。

所谓目标性，就是通过某一工艺流程的全过程有一个明确的输出，或者说要达到某一特定的目的。对于金属蚀刻而言，这个目的就是满足其设计图纸对产品的要求。更具体地说，这些

要求包括产品的蚀刻尺寸要求、经蚀刻后的表面粗糙度要求等。

比如，对于装饰用途的图文蚀刻产品，经过所设计的工艺流程加工制作完成后所要达到的目标:①要求经蚀刻后的图文清晰度要高;②要求经蚀刻后金属表面粗糙度要符合设计要求;③要求图文的蚀刻深度要满足设计要求;④工件在蚀刻过程所发生的形变要在设计规定的范围之内;等等。

再如，对于结构用途的产品，经过所设计的工艺流程加工制作完成后所要达到的目标:①经蚀刻后的工件其蚀刻深度是否在设计规定的公差范围之内;②经蚀刻后的工件其横向蚀刻尺寸变化后的实际尺寸是否在设计规定的公差范围之内，③经蚀刻后的工件表面粗糙度是否满足设计要求等等。