要计算合适的腐蚀区了解蚀刻机分为几个部分:一个蚀刻机分为四个部分:饲料部分→腐蚀区→清洗→放电区,蚀刻机进料部分、清洁区、过水断面是固定的,价格是由腐蚀的长度决定。腐蚀区域的长度由腐蚀时间、腐蚀输出量和工件尺寸决定。。    腐算公式如下：    腐蚀区=1+﹛总产量×(板长+板距50mm)÷{机宽÷(板宽+板距50mm)｝÷工时÷60×蚀刻时间﹜÷0.8。注：此公式进料宽度÷工件宽度只取整数，小数点后面去掉;后所得数取整数后加一，小数点去掉;为得出的结果与实际生产更为接近，需按照此公式结果再除以0.8，因为实际生产时认为周转会有时间损耗。    根据上述公式我们举例检验一下,比如某蚀刻加工厂想找一家蚀刻机厂家购买一台合适自己的蚀刻机，而不知道蚀刻机价格多少，只知道自己每天有200*300mm大小不锈钢板需要腐蚀镂空，产量为8小时需要生产500件，不锈钢板的厚度为0.3mm，想买一台节省成本的蚀刻机。    不锈钢板的尺寸为200*300mm，所以我们购买常规700mm进料宽度的蚀刻机为合适，根据我厂掌握不锈钢生产时腐蚀速率0.3mm镂空的腐蚀时间为15分钟，新更快。






国内生产刻蚀机水平高的企业为中微半导体设备（上海）有限公司（这家同样是有国资背景的企业，前两大股东也是国有企业，所以有人说我国光刻机没发展起来是因为国企的原因，这是不对的，中微半导体也可以说是国企，但是刻蚀机的技术水平是世界水平的。国内刻蚀机的发展离不开尹志尧为代表的几十位海归技术。尹志尧曾经担任应用材料的公司副总裁（应用材料是半导体设备厂商老大），参与***几代等离子体刻蚀设备的开发，在美国工作时就持有86项。2004年回来之后，***牵头设立了中微半导体公司，尹志尧等人重新投入研发刻蚀机，仅仅用了3年的时间就做出了世界的刻蚀机，为此美国人无法接受，还起诉了中微半导体侵权，但是终的验证结果是没有任何的侵权。（这才是中微半导体比上海微电子发展快的原因，毕竟上海微电子的没有人才在荷兰的A***L工作过，也许正是因为这件事，所以美国现在禁止A***L招聘中国的员工）。我国的刻蚀机技术位于，中微半导体的介质刻蚀机赢进入台积电7nm、10nm的生产线，中微半导体的刻蚀机制造工艺达到了5nm，已经通过了台积电的验证

 在连续的金属蚀刻机刻蚀速率更一致、 更均匀的蚀刻的。要满足这一要求，必须确保该蚀刻工艺铭刻在好的状态。这就需要再生和补偿，容易控制蚀刻刻蚀速率的选择。选择可以提供恒定的操作条件和解决方案参数自动控制技术和设备。

通过控制溶解的铜含量，PH 值溶液浓度、 温度、 溶液均匀性的流量 （或摆动喷管和喷嘴的喷雾系统） 来做到这一点。所以薄中的多层复合材料层合板，很容易浪费造成的伤口上墨辊和运输车轮上蚀刻的图层。

因此， 金属蚀刻机的板装置能保证平稳，工作可靠的薄层压板。很多设备制造商附加到金属蚀刻机齿轮或轮子，防止此类现象的发生。更好的方法是使用附加摆动的聚四氟乙烯涂层信封作为薄层压板支持传输。薄铜箔 （例如，1/2 或 1/4 盎司） 不能刮刻蚀，或将其划伤。站在像蚀刻 1 盎司的薄铜箔铝箔在机械缺陷，有时更猛烈的震动都有可能划伤铜箔。上一篇：金属腐蚀机与环境的关系