国内生产刻蚀机水平高的企业为中微半导体设备（上海）有限公司（这家同样是有国资背景的企业，前两大股东也是国有企业，所以有人说我国光刻机没发展起来是因为国企的原因，这是不对的，中微半导体也可以说是国企，但是刻蚀机的技术水平是世界水平的。国内刻蚀机的发展离不开尹志尧为代表的几十位海归技术。尹志尧曾经担任应用材料的公司副总裁（应用材料是半导体设备厂商老大），参与***几代等离子体刻蚀设备的开发，在美国工作时就持有86项。2004年回来之后，***牵头设立了中微半导体公司，尹志尧等人重新投入研发刻蚀机，仅仅用了3年的时间就做出了世界的刻蚀机，为此美国人无法接受，还起诉了中微半导体侵权，但是终的验证结果是没有任何的侵权。（这才是中微半导体比上海微电子发展快的原因，毕竟上海微电子的没有人才在荷兰的A***L工作过，也许正是因为这件事，所以美国现在禁止A***L招聘中国的员工）。我国的刻蚀机技术位于，中微半导体的介质刻蚀机赢进入台积电7nm、10nm的生产线，中微半导体的刻蚀机制造工艺达到了5nm，已经通过了台积电的验证

蚀刻机的冷冻蚀刻技术是在冷冻技术的基本上发展趋势起來的更繁杂的复型技术。假如将冷冻的样品的溫度略微上升，让样品中的冰在真空泵中提升，而表面层浮雕图案出细胞质的超微结构。当很多的干冰升华以后，对浮雕图案表层开展铂一碳复型，并在腐蚀水溶液中去除生物技术，复型经重蒸水数次清理后，捞在载在网上作透射电镜观查。

技术优势：

蚀刻机的冷冻蚀刻技术是以50时代逐渐发展趋势起來的一种将和复型紧密结合的制取透射电镜样品技术，因此亦称冷冻或冷冻复型。

它的优势取决于：

①样品根据冷冻，可让其细微构造贴近于活物情况；

②样品经冷冻蚀刻后，可以观查到不一样面的细微构造，从而可科学研究体细胞内的膜性构造及含有物构造；

③冷冻蚀刻的样品，经铂、碳镀洛而制取的复型膜，具备较强的层次感且能承受离子束负电子和长期性储存。

技术缺陷：

它的缺陷是：冷冻也可导致样品的人为因素损害；面多造成在样品构造敏感的位置，没法有到达站挑选。

蚀刻机能够分成有机化学蚀刻机及电解法蚀刻机两大类。在有机化学蚀刻加工中是应用化学溶液，经过化学变化以做到蚀刻加工的目地，有机化学蚀刻机是将原材料用化学变化或物理学碰撞***而清除的技术性。

蚀刻机价钱差的反映：

1、控温操纵：要想一台蚀刻机在一切正常生产制造时做到长久应用并且不危害产品质量的状况下，只靠基本上的循环系统髙压自喷是不足的，由于蚀刻机在工作中的情况下把机械能转换成了能源，大家都了解化学变化对温度是有规定的，因此温度持续的升高，对大家浸蚀生产加工时有非常大危害的，因此机器设备里边里边是配有控温自动控制系统的;

2、摆动自喷：另一方面，如果我们做的标识牌上边是大规模浸蚀得话，大家的蚀刻机还必须配置摆动作用，使喷淋装置在雾气自喷的情况下能够往返摆动，不会一直定在同一个部位自喷，假如全部工艺流程出来对产品工件的同一部位自喷得太集中化得话，便会导致浓淡不一，进而危害商品的品质。

3、三层过滤：过滤系统是蚀刻机的一部分，由于蚀刻机应用的药液是固态水溶液，多多少少会出现一点固态细颗粒物沉渣，假如缺乏过滤设备得话，蚀刻机的自动喷淋系统是非常容易阻塞的，因此基本的蚀刻机都是会含有过滤系统，过滤系统分双层过滤和基本上过滤，高精密的过滤系统是在大储水箱、小储水箱及其过滤器都是会装上过滤设备的，基本上的过滤就总是在大储水箱上切孔过滤引流方法，实际效果相比三层过滤会少许多。

4、快拆喷盘：应用快插接式喷盘的益处是喷淋装置上的打印机喷头都安裝在一个总体的喷盘以上，假如打印机喷头阻塞必须清理的情况下，大家只必须总体拆装喷盘就可以，不用单独拆装清理安裝，省掉了很多的時间。

5、整体机身原材料：对于五金深浸蚀生产加工选用PP塑胶板更耐热，不容易脆化使用期限长，PP板才自身是耐热的橡胶制品，且电焊焊接的难度系数大，导致的人力量也很大，有一些生产厂家为了更好地节约原材料成本费和人力成本用别的原材料取代。