洁净室中的温湿度控制

洁净空间的温湿度主要是根据工艺要求来确定，但在满足工艺要求的条件下，应考虑到人的舒适度感。随着空气洁净度要求的提高，出现了工艺对温湿度的要求也越来越严的趋势。具体工艺对温度的要求以后还要列举，但作为总的原则看，由于加工精度越来越精细，所以对温度波动范围的要求越来越小。因此，在净化空调系统的空气处理上要采取相应的措施，例如：夏季要降温、去湿（因为夏季室外空气是高温、高湿的），冬季要加热加湿（因为冬季室外空气是寒冷干燥的，室内湿度过低会产生静电，静电对电子产品的生产是致命的）。例如在大规模集成电路生产的光刻***工艺中，作为掩膜板材料的玻璃与硅片的热膨胀系数的差要求越来越小。直径100 um的硅片，温度上升1度，就引起了0.24um线性膨胀，所以必须有±0.1度的恒温，同时要求湿度值一般较低，因为人出汗以后，对产品将有污染，特别是怕钠的半导体车间，这种车间温度不宜超过25度，湿度过高产生的问题更多。相对湿度超过55%时，冷却水管壁上会结露，如果发生在精密装置或电路中，就会引起各种事故。相对湿度在50%时易生锈。此外，湿度太高时将通过空气中的水分子把硅片表面粘着的灰尘化学吸附在表面难以清除。相对湿度越高,粘附的越难去掉，但当相对湿度低于30%时，又由于静电力的作用使粒子也容易吸附于表面，同时大量半导体器件容易发生击穿。对于硅片生产的湿度范围为35—45%。

赛达净化坚持秉承以科技为先导、以市场为导向的科学管理理念，凭借规范化管理及***的技术力量在食品、***、化妆品、微电子等诸多工业领域设计承建了洁净SC厂房、GMP厂房、无菌室、实验室及相关配套产品。我们的宗旨：***！诚信！***！

净化工程俗称无尘车间、净化车间、洁净室等。其主要原理是排除一定空间范围内空气中的微粒、***空气和***等污染物，并将室内温湿度、洁净度、室内压力、气流速度和气流分布、噪声振动、照明和静电控制在要求的范围内。三、布铜网：待底涂固化后，在地面铺设横竖3米见方的铜网层，并留出接地线盒。主要是精准控制清洁度、温度和湿度，改善工作环境，提高成品率。净化工程所特别设计的房间，不论外在空气条件如何变化，室内均具有维持原先所设定要求之洁净度、温湿度及压力等性能。

赛达净化坚持秉承以科技为先导、以市场为导向的科学管理理念，凭借规范化管理及***的技术力量在食品、***、化妆品、微电子等诸多工业领域设计承建了洁净SC厂房、GMP厂房、无菌室、实验室及相关配套产品。我们的宗旨：***！诚信！***！

特性：拥有环氧树脂地板的一切优异性能，可快速排泄静电电荷、防静电效力持久、表面电阻率达到10?5-109Ω、地面电阻排泄符合国际GB6650-86A标准。

适用范围：生物工程车间、电子、微电子车间、无尘净化室、电子元件生产区、半导体车间***T、邦定车间等。