CVD涂层设备、CVD设备
作者:2014/12/30 6:54:41

    我公司和中科院宁波材料所联合研制开发了产业化CVD装备及涂层。开发的CVD装备具有有效沉积容积大,气流均匀可控,温度均匀可控的特点。开发了相应的碳化硅,氮化钛复合硬质涂层和金刚石超硬涂层,并且可以调控涂层界面,具有涂层附着力强的特点。

                                                                           上海晨鑫电炉有限公司

                                                                           来源:  www.sh-vac.com

                                                                            2014年12月30日

 

 

 

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