手工研磨时，研具表面各处要均匀磨削，以延长研具的使用寿命。同时要合理选择研磨的运动轨迹。研磨时的运动轨迹有直线、直线摆动、螺旋形、“8”字形和仿“8”字形等，清远研磨抛光加工，其共同特点是被加工表面与研具面做密合的平面运动。

直线研磨运动轨迹可获得较高的精度，适用于有台阶的狭长平面的研磨。直线摆动研磨运动轨迹(左右摆动往复移动)，主要适用于对平面度要求较高的角尺侧面及圆弧测量面等的研磨。

平面研磨过程

装有击钉端面的夹具与研磨盘表面很好的贴合在一起，夹具沿贴合表面研磨盘作自转的研磨运动。装有击钉端面的夹具和研磨盘表面间放有研磨液，当夹具与研磨盘表面作相对公转自转的运动时，研磨液中的部分磨粒在夹具和研磨盘表面间滑动或者滚动，表面研磨抛光加工，切去密封圈表面上很薄的一层金属。密封圈表面上表面上凸峰部分首先被磨去，然后渐渐的达到要求的几何形状。

平面研磨运动

击钉端面的夹具与研磨盘相对运动时，击钉端面表面上每一点对研磨盘的相对滑动路程都应该相同。并且，相对运动的方向应不断变更。运动方向的不断变化使每一磨粒不会在密封圈表面上重复自己运动的轨迹，以免造成明显的划痕而增击钉端面表面的粗糙度。此外，运动方向的不断变化还能使研磨液分布得比较均匀，平面研磨抛光加工，从而较均匀的切去击钉端面表面的不平整表皮。

研磨运动尽管复杂，运动方向尽管在变化，镜面研磨抛光加工厂，但研磨运动始终是沿着击钉端面的夹具与研磨盘表面的贴合表面进行的。无论是手工研磨还是机械研磨，密封圈表面的几何形状精度则主要受研具的几何形状精度及研磨运动的影响。

平面研磨速度

平面研磨运动速度越快，平面研磨的效率也越高。平面研磨速度快，在单位时间内工件表面上通过的磨粒比较多，切去的表面厚度余量也多。

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