手工研磨时，研具表面各处要均匀磨削，以延长研具的使用寿命。同时要合理选择研磨的运动轨迹。研磨时的运动轨迹有直线、直线摆动、螺旋形、“8”字形和仿“8”字形等，其共同特点是被加工表面与研具面做密合的平面运动。

直线研磨运动轨迹可获得较高的精度，适用于有台阶的狭长平面的研磨。直线摆动研磨运动轨迹(左右摆动往复移动)，主要适用于对平面度要求较高的角尺侧面及圆弧测量面等的研磨。

研磨速度通常为10m/min——240m/min。平面研磨精度要求比较高的工件，研磨速度一般不超过30m/min。击钉密封面的研磨速度与密封面的材料有关，铜及铸铁密封面的研磨速度为10m/min——45m/min；淬硬钢及硬质合金密封面为25m/min——80m/min；奥氏体不锈钢密封面为10m/min——25m/min。

平面研磨效率随研磨压力的增大而提高，研磨压力不能过大一般为0.01MPa——0.4MPa。

研磨铸铁、铜及奥氏体不锈钢材料的密封面时研磨压力为0.1MPa——0.3MPa；淬硬钢和硬质合金密封面为0.15MPa——0.4MPa。粗研时取较大值，精研时取较小值。

***生产销售平面研磨抛光，双端面研磨抛光机及等系列产品来料加工服务经营项目有各种五金平面研磨，双端面研磨，平面研磨抛光加工，双端面研磨抛光加工，精密研磨抛光加工，金属抛光加工，平面工件研磨抛光加工，异形曲面工件研磨抛光加工，产品广泛应用于超硬材料精密工具加工以及半导体硅晶片、光学玻璃、陶瓷、液晶、手表玻璃、宝石、各种法兰、阀片、密封件、刀片等金属及非金属的零部件。