平面研磨抛光加工

①微细性：可对工件进行0.01～0.1μm切削。②随机性：工件与研具随机接触，高点相互修整，误差逐步减小，精度同时得到提高。③针对性：可检测工件，有针对性变动研磨位置和掌握研磨时间，保证尺寸和形状精度。

1)研具材料铸铁：研磨淬硬和不淬硬的钢件及铸铁件。黄铜：研磨各种软金属。2)研磨剂①磨料：氧化铝、碳化硅、氧化铁、氧化等。②研磨液：机油、煤油、动物油及油酸、硬脂酸

手工研磨时，研具表面各处要均匀磨削，以延长研具的使用寿命。同时要合理选择研磨的运动轨迹。研磨时的运动轨迹有直线、直线摆动、螺旋形、“8”字形和仿“8”字形等，其共同特点是被加工表面与研具面做密合的平面运动。

直线研磨运动轨迹可获得较高的精度，适用于有台阶的狭长平面的研磨。直线摆动研磨运动轨迹(左右摆动往复移动)，主要适用于对平面度要求较高的角尺侧面及圆弧测量面等的研磨。

平面研磨余量

由于平面研磨石光整加工工序，故切削量很小。且平面研磨余量的大小取决于上道工序的加工精度和表面粗糙度。在保证去除上道工序加工痕迹和修正密封面几何形状误差的前提下，平面研磨余量愈小愈好。

密封面研磨前一般经过精磨。经精磨后的密封面可直接精研，其的研磨余量为：直径余量为0.008mm——0.020mm；平面余量为0.006mm——0.015mm。手工研磨或材料硬度较高时取小值，机械研磨或材料硬度较低时取大值。