真空镀膜技术是一种新颖的材料合成与加工的新技术，是表面工程技术领域的重要组成部分。真空镀膜技术是利用物理、化学手段将固体表面涂覆一层特殊性能的镀膜，从而使固体表面具有耐磨损、耐高温、耐腐蚀、、防辐射、导电、导磁、绝缘和装饰等许多优于固体材料本身的优越性能，达到提高产品质量、延长产品寿命、节约能源和获得显著技术经济效益的作用。

真空PVD镀膜涂层表面摩擦系数小，经过表面抛光的金属材料的表面对钢摩擦系数一般在0.9左右，金属真空镀膜厂家，真空PVD镀膜涂层对钢材的摩擦系数在0.01～0.6之间，常用于压铸模具的真空PVD镀膜涂层材料（AlCrN，AlTiN）摩擦系数一般在0.4-0.6，低的摩擦系数使经过真空PVD镀膜处理的模具在加工过程中与被加工零件的表面摩擦降低，零件表面品质优于没有涂层的模具所生产的零件。

?PVD真空镀膜金属真空镀膜

PVD真空镀膜过程的均匀性

PVD真空镀膜过程非常复杂，由于镀膜原理的不同分为很多种类，仅仅因为都需要高真空度而拥有统一名称。所以对于不同原理的PVD真空镀膜，影响均匀性的因素也不尽相同。并且均匀性这个概念本身也会随着镀膜尺度和薄膜成分而有着不同的意义。

PVD镀膜加工工艺流程比较长、工序繁多，金属真空镀膜加工厂家，发生故障的影响因素会很多。如PVD镀膜前处理不净、清洗不良、电解液成分失调及杂质污染、生产环境不良等。PVD镀膜而故障的原因往往存在于以上各影响因素的一两个细节之中。

2.2.2偏压溅射biassputtering：在溅射过程中，将偏压施加于基片以及膜层的溅射。

2.2.3直流二级溅射directcurrenodesputtering：通过二个电极间的直流电压，金属真空镀膜，使气体自持放电并把靶作为阴极的溅射。

2.2.4非对称流溅射asymmtricalternatecurrentsputtering：通过二个电极间的非对称流电压，金属真空镀膜厂，使气体自持放电并把靶作为吸收较大正离子流的电极。

2.2.5高频二极溅射highfrequencydiodesputtering：通过二个电极间的高频电压获得高频放电而使靶极获得负电位的溅射。

2.2.6热阴极直流溅射（三极型溅射）hotcathodedirectcurrentsputtering：借助于热阴极和阳极获得非自持气体放电，气体放电所产生的离子，由在阳极和阴极（靶）之间所施加的电压加速而轰击靶的溅射。

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