pvd真空镀膜真空镀膜

pvd真空镀膜的功能原理是什么？

pvd真空镀膜的原理主要是物***相沉积，其是当前国际上广泛应用的***的表面处理技术。其工作原理就是在真空条件下，利用气体放电使气体或被蒸发物质部分离化，真空镀膜，在气体离子或被蒸发物质离子轰击作用的同时把蒸发物或其反应物沉积在基材上。

pvd真空电镀具有沉积速度快和表面清洁的特点，特别具有膜层附着力强、绕性好、可镀材料广泛等优点。

　真空镀膜的功能是多方面的，这也决定了其应用场合非常丰富。总体来说，金属真空镀膜，真空镀膜的主要功能包括赋予被镀件表面高度金属光泽和镜面效果，在薄膜材料上使膜层具有出色的阻隔性能，提供优异的电磁屏蔽和导电效果。

真空镀膜加工与电镀全是两回事儿。真空镀膜加工是把物体放入真空室里，在真空状态下把所要镀的金属加热蒸发，然后被镀物体在里面转动把金属颗粒吸附在被镀物体表面，镀后为了不使金属颗粒氧化在表面再喷透明面油从而增加结合力和隔离空气。一般来说真空镀膜加工不能镀的材料是那些表面柔软易变形的材料，还有就是不易干燥的材料。电镀一般是ABS塑料才可以处理成导电体再电镀。

什么是真空镀膜工艺

一种产生薄膜材料的技术。在真空室内材料的原子从加热源离析出来打到被镀物体的表面上。此项技术用于生产激光唱片（光盘）上的铝镀膜和由掩膜在印刷电路板上镀金属膜。

真空镀膜

在真空中制备膜层，包括镀制晶态的金属、半导体、绝缘体等单质或化合物膜。虽然化学汽相沉积也采用减压、低压或等离子体等真空手段，但一般真空镀膜是指用物理的方法沉积薄膜。真空镀膜有三种形式，即蒸发镀膜、溅射镀膜和离子镀。

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