什么是真空镀膜工艺

一种产生薄膜材料的技术。在真空室内材料的原子从加热源离析出来打到被镀物体的表面上。此项技术用于生产激光唱片（光盘）上的铝镀膜和由掩膜在印刷电路板上镀金属膜。

真空镀膜

在真空中制备膜层，包括镀制晶态的金属、半导体、绝缘体等单质或化合物膜。虽然化学汽相沉积也采用减压、低压或等离子体等真空手段，但一般真空镀膜是指用物理的方法沉积薄膜。真空镀膜有三种形式，五金真空镀膜厂，即蒸发镀膜、溅射镀膜和离子镀。

真空镀膜是真空应用领域的一个重要方面，它是以真空技术为基础，利用物理或化学方法，并吸收电子束、分子束、离子束、等离子束、射频和磁控等一系列新技术，五金真空镀膜加工，为科学研究和实际生产提供薄膜制备的一种新工艺。

真空镀膜应用是真空应用中的一个大分支，五金真空镀膜，在光学、电子学、理化仪器、包装、机械以及表面处理技术等众多方面有着十分广泛的应用

2.2.2偏压溅射biassputtering：在溅射过程中，将偏压施加于基片以及膜层的溅射。

2.2.3直流二级溅射directcurrenodesputtering：通过二个电极间的直流电压，使气体自持放电并把靶作为阴极的溅射。

2.2.4非对称流溅射asymmtricalternatecurrentsputtering：通过二个电极间的非对称流电压，五金真空镀膜厂家，使气体自持放电并把靶作为吸收较大正离子流的电极。

2.2.5高频二极溅射highfrequencydiodesputtering：通过二个电极间的高频电压获得高频放电而使靶极获得负电位的溅射。

2.2.6热阴极直流溅射（三极型溅射）hotcathodedirectcurrentsputtering：借助于热阴极和阳极获得非自持气体放电，气体放电所产生的离子，由在阳极和阴极（靶）之间所施加的电压加速而轰击靶的溅射。

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