在真空中制备膜层，包括镀制晶态的金属、半导体、绝缘体等单质或化合物膜。虽然化学汽相沉积也采用减压、低压或等离子体等真空手段，但一般真空镀膜是指用物理的方法沉积薄膜。真空镀膜有三种形式，即蒸发镀膜、溅射镀膜和离子镀。

　　真空镀膜技术初现于20世纪30年，四五十年开始出现工业应用，工业化大规模生产开始于20世纪80年代，在电子、宇航、包装、装潢、烫金印刷等工业中取得广泛的应用。

对于真空镀膜加工单片膜色不均匀产生的原因

主要是由于基片凹凸严重，与伞片曲率差异较大，基片上部、或下部法线与蒸发源构成的蒸发角差异较大。造成一片镜片上各部位接受膜料的条件差异大，形成的膜厚差异大。?

另外镜片被镜圈（）边缘部遮挡、镜圈（）脏在蒸镀时污染镜片等等也会造成膜色差异问题。?

改善思路：改善镜片边缘的蒸发角。

改善对策：?

㈠?条件许可，用行星夹具；?

㈡?选用伞片平坦（R大）的机台；?

㈢?根据伞片孔位分布，基片形状，制作专门的锯齿形修正板。?

㈣?如果有可能，把蒸发源往真空室中间移动，也可改善单片的膜色均匀性。?㈤?改善镜圈（），防止遮挡。?

㈥?注意旋转伞架的相应部位对边缘镜片的部分遮挡?㈦?清洁镜圈（）?㈧?改善膜料蒸发状况。

PVD镀膜真空镀膜加工价格

真空镀膜表面处理工艺后铝型材的特征

磨砂面料型材：磨砂面铝型材避免了光亮的铝合金型材在建筑装饰中存在环境、条件下会形成光的干扰的缺点，它的表面如锦缎一样细腻柔和，很受市场的青睐，但现有的磨砂材须克服表面砂粒不均匀，并能看到模纹的不足。

PVD镀膜技术的原理?

?PVD镀膜（离子镀膜）技术，其具体原理是在真空条件下，采用低电压、大电流的电弧放电技术，利用气体放电使靶材蒸发并使被蒸发物质与气体都发生电离，利用电场的加速作用，使被蒸发物质及其反应产物沉积在工件上。