?PVD真空镀膜真空镀膜

PVD真空镀膜过程的均匀性

PVD真空镀膜过程非常复杂，由于镀膜原理的不同分为很多种类，仅仅因为都需要高真空度而拥有统一名称。所以对于不同原理的PVD真空镀膜，影响均匀性的因素也不尽相同。并且均匀性这个概念本身也会随着镀膜尺度和薄膜成分而有着不同的意义。

PVD镀膜加工工艺流程比较长、工序繁多，发生故障的影响因素会很多。如PVD镀膜前处理不净、清洗不良、电解液成分失调及杂质污染、生产环境不良等。PVD镀膜而故障的原因往往存在于以上各影响因素的一两个细节之中。

真空镀膜

②光密度法。光密度(OD)定义为材料遮光能力的表征。光密度没有量纲单位，是一个对数值，手机真空镀膜，通常仅对镀铝薄膜和珠光膜进行光密度测量。 光密度是入射光与透射光比值的对数或者说是光线透过率倒数的对数。

计算公式为： OD=lg（入射光／透射光）或OD=lg（1／透光率） 通常镀铝膜的光密度值为l～3(即光线透过率为0.10/0~10%)，数值越大镀铝层越厚。 光密度OD值、方阻值对应的铝层厚度如表6-7所示。 表6-70D值、方阻值和铝层厚度对照表 光密度 OD值 电阻值 Ohm/Square方阻值 铝层厚度 A 1.6 3 320 1.8 2.7 360 2.0 2.35 400 2.2 2.05 440 2.4 1.8 480 2.6 1.55 520 2.8 1.3 560 3.0 1.0 600

真空镀膜厂家真空电镀设备的监控方法

随着基础工业及高新技术产品的发展，五金真空镀膜，对表面改性及涂层技术的需求向纵深延伸，国内外在该领域与相关学科相互局势下，

表面改性与涂层工艺模拟和性能预测等方面都有着突破的进展。以下就和大家介绍一下真空电镀设备的监控方法：

目视监控：使用眼睛监控，因为薄膜在生长的过程中，真空镀膜，由于干涉现象会有颜色变化，我们就是根据颜色变化来控制膜厚度的，此种方式有误差，所以不是很准确，需要依靠经验。

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