真空镀膜厂家真空室形带来的影响
为尽量减小真空镀膜机真空室形变带来的影响,我们将导轨、丝杆等传动件固定于一个刚性的中间层上,其与真空室底壁之间采用点、
线、面活性支撑,玻璃真空镀膜,以吸收和隔离形变,并设置形变补偿调节机构,在系统抽真,参照有限元计算提供的理论数据预设适当的补偿量,以使其在真空状态下达到平衡。
为了验证有限元计算的结果,对真空室的形变和补偿进行了测试。一步,将四只千分表***在工作台安装基点的真空壁外侧,手机壳真空镀膜,
当真空室由大气抽到真空时,记录各千分表的变化量,真空镀膜,经一体化处理后为用激光自准直仪调整i形变补偿。
真空镀膜
②光密度法。光密度(OD)定义为材料遮光能力的表征。光密度没有量纲单位,是一个对数值,通常仅对镀铝薄膜和珠光膜进行光密度测量。 光密度是入射光与透射光比值的对数或者说是光线透过率倒数的对数。
计算公式为: OD=lg(入射光/透射光)或OD=lg(1/透光率) 通常镀铝膜的光密度值为l~3(即光线透过率为0.10/0~10%),数值越大镀铝层越厚。 光密度OD值、方阻值对应的铝层厚度如表6-7所示。 表6-70D值、方阻值和铝层厚度对照表 光密度 OD值 电阻值 Ohm/Square方阻值 铝层厚度 A 1.6 3 320 1.8 2.7 360 2.0 2.35 400 2.2 2.05 440 2.4 1.8 480 2.6 1.55 520 2.8 1.3 560 3.0 1.0 600
1、真空镀膜是指在高真空的条件下加热金属或非金属材料,使其蒸发并凝结于镀件(金属、半导体或绝缘体)表面而形成薄膜的一种方法。例如,真空镀铝、真空镀铬等。
2、光学镀膜是指在光学零件表面上镀上一层(或多层)金属(或介质)薄膜的工艺过程。在光学零件表面镀膜的目的是为了达到减少或增加光的反射、分束、分色、滤光、偏振等要求。常用的镀膜法有真空镀膜(物理镀膜的一种)和化学镀膜。
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