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真空镀膜厂家真空电镀设备的监控方法

随着基础工业及高新技术产品的发展，对表面改性及涂层技术的需求向纵深延伸，国内外在该领域与相关学科相互局势下，

表面改性与涂层工艺模拟和性能预测等方面都有着突破的进展。以下就和大家介绍一下真空电镀设备的监控方法：

目视监控：使用眼睛监控，因为薄膜在生长的过程中，由于干涉现象会有颜色变化，我们就是根据颜色变化来控制膜厚度的，此种方式有误差，所以不是很准确，需要依靠经验。

极值监控法：当膜厚度增加的时候其反射率和穿透率会跟着起变化，当反射率或穿透率走到极值点的时候，就可以知道镀膜之光学厚度ND是监控波长的四分之一的整倍数。但是极值的方法误差比较大，因为当反射率或者透过率在极值附近变化很慢，亦就是膜厚ND增加很多，R/T才有变化。反映比较灵敏的位置在八分之一波长处。

3.定值监控法：此方法利用停镀点不在监控波长四分之一波位，然后由计算机计算在波长一时总膜厚之反射率是多少，此即为停止镀膜点。

由水平调整的自准直仪发出一束激光穿过真空室的玻璃窗照射固定于工作台上的反射镜，在大气环境下调变补偿调节机构，

使反射光束进入自准直仪接收视场，记录两维角度偏差。真空镀膜加工

按有限元计算的真空状态下的补偿量再次调整，显然，此时的反射光束已远离自准直仪接收视场，但一旦真空室进入真空状态，

反射光束又重新进入自准直仪的接收视场，记录此时的两维角度偏差。前后两次显示的两维角度偏差基本吻合。

真空镀膜

②光密度法。光密度(OD)定义为材料遮光能力的表征。光密度没有量纲单位，是一个对数值，通常仅对镀铝薄膜和珠光膜进行光密度测量。 光密度是入射光与透射光比值的对数或者说是光线透过率倒数的对数。

计算公式为： OD=lg（入射光／透射光）或OD=lg（1／透光率） 通常镀铝膜的光密度值为l～3(即光线透过率为0.10/0~10%)，数值越大镀铝层越厚。 光密度OD值、方阻值对应的铝层厚度如表6-7所示。 表6-70D值、方阻值和铝层厚度对照表 光密度 OD值 电阻值 Ohm/Square方阻值 铝层厚度 A 1.6 3 320 1.8 2.7 360 2.0 2.35 400 2.2 2.05 440 2.4 1.8 480 2.6 1.55 520 2.8 1.3 560 3.0 1.0 600