从蒸发源到基片的距离应小于蒸气分子在残余气体中的平均自由程，

以免蒸气分子与残气分子碰撞引起化学作用。蒸气分子平均动能约为0.1～0.2电子伏。

蒸发源有三种类型。①电阻加热源：用难熔金属如钨、钽制成舟箔或丝状,通以电流,加热在它上方的或置于坩埚中的蒸发物质,电阻加热源主要用于蒸发Cd、

Pb、Ag、Al、Cu、Cr、Au、Ni等材料。②高频感应加热源：用高频感应电流加热坩埚和蒸发物质。③电子束加热源：适用于蒸发温度较高（不低于2000[618-1]）的材料，即用电子束轰击材料使其蒸发。

真空镀膜金属真空镀膜厂家

相对于传统镀膜方式，真空镀膜应用属于一种干式镀膜，它的主要方法包括以下几种：

　　真空蒸镀

　　其原理是在真空条件下，用蒸发器加热带蒸发物质，使其气化或升华，蒸发离子流直接射向基片，并在基片上沉积析出固态薄膜的技术。

　　溅射镀膜

　　溅射镀膜是真空条件下，在阴极接上2000V高压电，激发辉光放电，带正电的离子撞击阴极，使其射出原子，溅射出的原子通过惰性气氛沉积到基片上形成膜层。

　　离子镀膜

　　即干式螺杆真空泵厂家已经介绍过的真空离子镀膜。它是在上面两种真空镀膜技术基础上发展而来的，因此兼有两者的工艺特点。在真空条件下，利用气体放电使工作气体或被蒸发物质(膜材)部分离化，并在离子轰击下，将蒸发物或其反应物沉积在基片表面。并且均匀性这个概念本身也会随着镀膜尺度和薄膜成分而有着不同的意义。在膜的形成过程中，基片始终受到高能粒子的轰击，十分清洁。

　　真空卷绕镀膜

　　真空卷绕镀膜是一种利用物***相沉积的方法在柔性基体上连续镀膜的技术，以实现柔性基体的一些功能性、装饰性属性。

　　上述四种都属于物***相沉积技术应用(PVD)。

　　接下来是化学气相沉积(CVD)。它是以化学反应的方式制作薄膜，原理是一定温度下，将含有制膜材料的反应气体通到基片上并被吸附，在基片上产生化学反应形成核，随后反应生成物脱离基片表面不断扩散形成薄膜。

　　束流沉积镀，结合了离子注入与气相沉积镀膜技术的离子表面复合处理技术，是一种利用离化的粒子作为蒸镀材料，在比较低的基片温度下，形成具有良好特性薄膜的技术。

为什么真空镀膜可以做成不同的颜色，还有七彩色？

因为在真空蒸镀完之后还要喷一层UV光油面漆，这层面漆上可以做不同的颜色。真空镀膜是指在高真空的条件下加热金属或非金属材料，使其蒸发并凝结于镀件（金属、半导体或绝缘体）表面而形成薄膜的一种方法。蒸镀通过镀一些硅化物可以做成七彩色，但比较薄，近看可以，远看不明显，；溅射通过CSi、CO、Si等物质进行反应镀可镀出七彩色，或者通过低温多层不同颜色的镀膜来呈现多彩。

而水电镀的一般为金属本色，要呈现其他颜色的需要涂UV面漆然后UV照射。

表面有彩虹纹，是过多使用洗涤剂或油引起，洗涤时用温水中性洗涤剂可洗去。

禁止使用含漂白成分以及研磨剂的洗涤液、钢丝球、研磨工具等来清洗，为避免残余洗涤液，腐蚀表面，洗涤结束时要用洁净水冲洗表面。

禁止产品接触强酸强碱的化学物品。

只要我们使用正确的***方法，就能延长产品的使用寿命，保持其洁净、明亮、华丽的气派。