物***相沉积技术具有膜/基结合力好、薄膜均匀致密、薄膜厚度可控性好、应用的靶材广泛、溅射范围宽、可沉积厚膜、可制取成分稳定的合金膜和重复性好等优点。同时，物***相沉积技术由于其工艺处理温度可控制在500℃以下，因此可作为***终的处理工艺用于高速钢和硬质合金类的薄膜刀具上。由于采用物***相沉积工艺可大幅度提高刀具的切削性能，人们在竞相开发高i性能、高可靠性设备的同时，也对其应用领域的扩展，尤其是在高速钢、硬质合金和陶瓷类刀具中的应用进行了更加深入的研究。MBE分子束外沿镀膜技术，已经比较好的解决了如上所属的问题，但是基本用于实验研究，工业生产上比较常用的一体式镀膜机主要以离子蒸发镀膜和磁控溅射镀膜为主。

众所周知，在某些材料的表面上，只要镀上一层薄膜，就能使材料具有许多新的、良好的物理和化学性能。20世纪70年代，在物体表面上镀膜的方法主要有电镀法和化学镀法。前者是通过通电，使电解液电解，被电解的离子镀到作为另一个电极的基体表面上，因此这种镀膜的条件，基体必须是电的良导体，而且薄膜厚度也难以控制。后者是采用化学还原法，必须把膜材配制成溶液，并能迅速参加还原反应，这种镀膜方法不仅薄膜的结合强度差，而且镀膜既不均匀也不易控制，同时还会产生大量的废液，造成严重的污染。因此，这两种被人们称之为湿式镀膜法的镀膜工艺受到了很大的限制。更为强大的是经过真空镀膜的手机还有、防污染、防静电、防辐射的作用。

我们采用的是纯度在99.99%以上左右的锡或铟及铟锡合金。厚度在30纳米以下的锡，连续性相当的差，但能取得银白色金属光泽并具有较大的电阻。铟也是一样，但铟的银白色反光率更胜于锡的外观，因为价格较高，我们采用铟锡合金，这样既能得到不导电膜又能得到更白更亮的反光金属效果！长期以来，因为国民经济的不断提高及人民生活水平的改善，极大影响了镀膜工业在国民经济的地位和作用，对于产品镀膜的要求越来越多，市场需求越来越大。镀铟锡不导电膜都是半透明的，所以我们要求被镀基材为透明或黑色为佳。因为镀铟锡都是在250度就开始溶化，所以蒸发的温度也相对较低，这样加热熔化及蒸发的电流和时间相对也较低。