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作者:泰坦金属2020/6/10 4:00:30





简单地说,在真空中把金属、合金或化合物进行蒸发或溅射,使其在被涂覆的物体(称基板、基片或基体)上凝固并沉积的方法,称为真空镀膜。众所周知,在某些材料的表面上,只要镀上一层薄膜,就能使材料具有许多新的、良好的物理和化学性能。20世纪70年代,在物体表面上镀膜的方法主要有电镀法和化学镀法。前者是通过通电,使电解液电解,被电解的离子镀到作为另一个电极的基体表面上,因此这种镀膜的条件,基体必须是电的良导体,五金真空镀膜厂,而且薄膜厚度也难以控制。




蒸发物质如金属、化合物等置于坩埚内或挂在热丝上作为蒸发源,待镀工件,五金真空镀膜价格,如金属、陶瓷、塑料等基片置于坩埚前方。待系统抽至高真空后,加热坩埚使其中的物

质蒸发。蒸发物质的原子或分子以冷凝方式沉积在基片表面。薄膜厚度可由数百埃至数微米。


膜厚决定于蒸发源的蒸发速率和时间(或决定于装料量),并与源和基片的距离有关。对于大面积镀膜,常采用旋转基片或多蒸发源的方式以保证膜层厚度的均匀性。




基体外表状况对掩盖才能的影响

  基体资料的外表状况是影响掩盖才能的主要要素之一。实习标明,金属在不一样基体资料上电堆积时,五金真空镀膜加工,同一镀液的掩盖才能不一样也很大。如用铬酸溶液镀铬,五金真空镀膜,金属铬在铜、镍、黄铜和钢上堆积时,镀液的掩盖才能顺次递减。这是因为当金属离子在不一样的基体资料上复原堆积时,其过电位的数值有很大的不一样。过电位较小的分出电位较正,即便在电流密度较低的部位也能到达其分出电位的数值,因而其掩盖才能较好。





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